高周波加熱装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：滝本智之 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-192535
公開番号（公開出願番号）：特開2000-030855
出願日： 1998年07月08日
公開日（公表日）： 2000年01月28日
要約：

【要約】【課題】本発明はマイクロ波空間に生じるマイクロ波分布を故意に可変制御し、被加熱物の加熱の均一化を促進する高周波加熱装置を提供するものである。【解決手段】マイクロ波空間10を形成する左側側面12に形成した開孔部16と、開孔部16に接続された溝部18と、溝部18内に設けたインピーダンス可変手段20と、インピーダンス可変手段の幅広面20aの溝部18の深さ方向に対する配設位置を判定する支持角度判定手段25と、マイクロ波検出手段27、28とを備え、マイクロ波検出手段の信号に基づいてインピーダンス可変手段を回転制御し開孔部のインピーダンスを可変してマイクロ波空間でのマイクロ波分布を変化させて被加熱物の加熱の均一化を図る。

請求項（抜粋）：

被加熱物を収納するとともに給電されたマイクロ波を実質的に閉じ込めるマイクロ波空間と、前記マイクロ波空間を形成する金属壁面に生じる高周波電流の流れを分断するように設けた開孔部と、前記開孔部に接続され終端が閉じられた溝部と、前記溝部内に設け前記開孔部におけるインピーダンスを変えるインピーダンス可変手段と、前記溝部内のマイクロ波強度を検出するマイクロ波検出手段と、前記マイクロ波検出手段の検出信号に基づいて前記インピーダンス可変手段を制御する制御部とを備えた高周波加熱装置。

IPC (2件)：

H05B 6/74 , H05B 6/70

FI (2件)：

H05B 6/74 F , H05B 6/70 E

Fターム (11件)：

3K090AA01 , 3K090AB01 , 3K090BA01 , 3K090BB15 , 3K090CA01 , 3K090CA21 , 3K090DA01 , 3K090DA18 , 3K090EA01 , 3K090EB13 , 3K090EB14

引用特許：

審査官引用 (7件)

電子レンジ
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-012321 出願人：株式会社東芝
電子レンジのマイクロ波電界検出装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-018773 出願人：シャープ株式会社
電子レンジ
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-010067 出願人：シャープ株式会社

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