特許

J-GLOBAL ID：200903067880706481

インプリントリソグラフィ

発明者： アレクセイ ユーリフィチ コレスニーチェンコ ,  ヘルマー ファン サンテン ,  イヴォンヌ ウェンデラ クルイユト - シュテゲマン
出願人/特許権者： エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
代理人 (4件)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  田中 正 ,  森 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-146630
公開番号（公開出願番号）：特開2006-332678
出願日： 2006年05月26日
公開日（公表日）： 2006年12月07日
要約：

【課題】パターン形成したテンプレートを流動可能な状態のインプリント可能媒体にインプリントするプロセスを適用した、高温およびUVインプリントリソグラフィを提供する。【解決手段】インプリントテンプレートを保持するように構成されたテンプレートホルダ、基板を受けるように配置構成された基板テーブルと、インプリントテンプレートの一部を照明するように配置構成された放射線出力部と、インプリントテンプレートと基板上に設けたインプリント可能材料の間の境界面から散乱する放射線を検出するように構成された検出器とを有するリソグラフィ装置を開示する。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

リソグラフィ装置であって、 インプリントテンプレートを保持するように構成されたテンプレートホルダと、 基板を受けるように配置構成された基板テーブルと、 インプリントテンプレートの一部を照明するように配置構成された放射線出力部と、 インプリントテンプレートと基板上に設けたインプリント可能材料との境界面から散乱した放射線を検出するように構成された検出器とを有するリソグラフィ装置。

IPC (1件)：

H01L 21/027

FI (1件)：

H01L21/30 502D

Fターム (3件)：

5F046BA10 ,  5F046CA02 ,  5F046DB01

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 転写リソグラフィのための透明テンプレートと基板の間のギャップおよび配向を高精度でセンシングするための方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2002-516600   出願人：ボード・オブ・リージエンツ,ザ・ユニバーシテイ・オブ・テキサス・システム
• モールド、パターン形成方法、及びパターン形成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-137319   出願人：キヤノン株式会社
• ナノインプリント装置及び方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-352744   出願人：住友重機械工業株式会社
• レジストパターン形成装置およびその形成方法、および、当該方法を用いた半導体装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-049675   出願人：ソニー株式会社