特許
J-GLOBAL ID：200903080511212200
ナノインプリント装置及び方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
高橋 敬四郎
, 来山 幹雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-352744
公開番号（公開出願番号）：特開2005-116978
出願日： 2003年10月10日
公開日（公表日）： 2005年04月28日
要約：
【課題】 光学装置を退避させることなく、かつ位置合わせすべき2つの対象物が接触した状態でも位置検出が可能なナノインプリント装置を提供する。【解決手段】 第1の保持台が、第1のマークが形成された被転写基板を保持する。第2の保持台が、第2のマーク及び凹凸パターンが形成された型を、凹凸パターンが形成された面を被転写基板に対向させて保持する。変位機構が、第1及び第2の保持台の少なくとも一方を変位させる。昇降機構が、被転写基板と型とが接触するまで、第1及び第2の保持台の少なくとも一方を移動させる。被転写基板の表面に対して光軸が傾斜した対物レンズを含む受光装置が、第1及び第2のマークからの散乱光により両者の像を得る。制御装置が、観測結果に基づいて、第1のマークと第2のマークとの相対位置を求め、変位機構を制御して、第1のマークと第2のマークとの位置合わせを行う。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
光を散乱させる第1のアライメントマークが表面上に形成された被転写基板を保持する第1の保持台と、
光を散乱させる第2のアライメントマーク及び凹凸パターンが形成された型を、凹凸パターンが形成されている面が前記第1の保持台に保持される被転写基板に対向するように保持する第2の保持台と、
前記第1の保持台及び前記第2の保持台の少なくとも一方を他方に対して変位させる変位機構と、
前記第1の保持台に保持された被転写基板と、前記第2の保持台に保持された型とが接触するまで両者が近づくように、前記第1の保持台及び前記第2の保持台の少なくとも一方を移動させる昇降機構と、
前記第1の保持台に保持された被転写基板の表面に対して光軸が傾斜した対物レンズを含み、該第1の保持台に保持された被転写基板の第1のアライメントマーク及び前記第2の保持台に保持された型の第2のアライメントマークからの散乱光により、第1のアライメントマーク及び第2のアライメントマークの像を得る受光装置と、
前記受光装置の観測結果に基づいて、前記第1のアライメントマークと第2のアライメントマークとの相対位置を求め、前記変位機構を制御して、前記第1のアライメントマークと第2のアライメントマークとの位置合わせを行う制御装置と
を有するナノインプリント装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 502D
, B81C3/00
5F046AA28
, 5F046EB01
, 5F046EB03
, 5F046ED02
, 5F046FA09
, 5F046FC05
出願人引用 (1件)
審査官引用 (5件)
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