特許
J-GLOBAL ID：200903067887957676

ガス処理システム

発明者：
五十嵐 豊

五十嵐 豊 について

, 
加藤 啓治

加藤 啓治 について

, 
杉田 清隆

杉田 清隆 について


出願人/特許権者：
東洋熱工業株式会社

東洋熱工業株式会社 について


代理人 (3件)： 藤沢 則昭 ,  藤沢 正則 ,  藤沢 昭太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-199108
公開番号（公開出願番号）：特開2007-014885
出願日： 2005年07月07日
公開日（公表日）： 2007年01月25日
要約：
【課題】 吸着された被処理ガスの除去成分を脱着して生成する濃縮ガスの濃度および温度を、触媒に対応した最適な一定値に維持して、効率よく吸着剤から除去成分を脱着し脱着した除去成分を処理するガス処理システムを提供する。【解決手段】 被処理ガスの除去成分を吸着部2の吸着剤に吸着させた後の脱ガス空気を排気し、吸着剤に加熱空気を供給することにより吸着剤から除去成分を脱着して濃縮ガスを生成し、濃縮ガスを触媒燃焼させて除去成分を処理し、処理後の脱ガス空気と濃縮ガスとを熱交換するガス処理システム1において、吸着剤の脱着時に吸着部2に加熱ガスを循環させる濃縮装置5と、脱着時の濃縮ガスの濃度を検知する濃度検知装置6とを設け、濃度検知装置6により濃縮装置5を制御する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
被処理ガスの除去成分を吸着部の吸着剤に吸着させた後の脱ガス空気を排気し、前記吸着剤に加熱空気を供給することにより前記吸着剤から除去成分を脱着して濃縮ガスを生成し、該濃縮ガスを触媒燃焼させて除去成分を処理し、処理後の脱ガス空気と前記濃縮ガスとを熱交換するガス処理システムにおいて、 前記吸着剤の脱着時に前記吸着部に加熱ガスを循環させる濃縮装置と、脱着時の濃縮ガスの濃度を検知する濃度検知装置とを設け、前記濃度検知装置により前記濃縮装置を制御することを特徴とするガス処理システム。
IPC (6件)：
B01D 53/44 ,  B01D 53/74 ,  B01D 53/86 ,  G01N 1/36 ,  G01N 1/22 ,  G01N 25/22
FI (5件)：
B01D53/34 117G ,  B01D53/36 G ,  G01N1/28 Z ,  G01N1/22 L ,  G01N25/22
Fターム (36件)：
2G040AB15 ,  2G040BA23 ,  2G040BB10 ,  2G040CA01 ,  2G040DA01 ,  2G040ZA08 ,  2G052AA00 ,  2G052AD02 ,  2G052AD22 ,  2G052AD42 ,  2G052BA22 ,  2G052ED03 ,  2G052ED10 ,  2G052GA20 ,  4D002AA33 ,  4D002AA40 ,  4D002AB02 ,  4D002AB03 ,  4D002BA04 ,  4D002BA05 ,  4D002CA07 ,  4D002CA13 ,  4D002DA41 ,  4D002DA45 ,  4D002DA70 ,  4D002EA02 ,  4D002EA08 ,  4D002GA02 ,  4D002GA03 ,  4D002GB02 ,  4D002HA08 ,  4D048AA23 ,  4D048AB01 ,  4D048CC54 ,  4D048CD01 ,  4D048CD08
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (4件)
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