特許
J-GLOBAL ID：200903027244462490
繰り返しパターン消去方法及びパターン欠陥検査装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石原 勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-218606
公開番号（公開出願番号）：特開2001-043378
出願日： 1999年08月02日
公開日（公表日）： 2001年02月16日
要約：
【要約】【課題】 電子機器デバイスに含まれる繰り返しパターンの中の欠陥判定を自動的に高速にて行えるように、簡単なアルゴリズムにて繰り返しパターンを適切に消去する。【解決手段】 予め定めてある基準サイズ及びその整数倍のサイズで注目画素と複数比較画素との間の濃度差を求める複数濃度差検出工程と、複数濃度差から最も0に近い濃度差を検出する特定濃度差決定工程と、特定濃度差をパターン消去画像における基準濃度に対して加えるパターン消去画像生成工程とを有する。
請求項（抜粋）：
繰り返しパターンの存在する被検査体に対してその欠陥判定を行う際に、被検査体を撮像して得られた濃淡画像中における繰り返しパターンを消去する方法であって、予め定めてある基準サイズ及びその整数倍のサイズで注目画素と複数比較画素との間の濃度差を求める複数濃度差検出工程と、複数濃度差から最も0に近い濃度差又は平均濃度差を特定濃度差として検出する特定濃度差決定工程と、特定濃度差をパターン消去画像における基準濃度に対して加えるパターン消去画像生成工程とを有することを特徴とする繰り返しパターン消去方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G06F 15/62 405 A
, G01N 21/956 A
2G051AA51
, 2G051AA73
, 2G051AB20
, 2G051BA20
, 2G051CA03
, 2G051CA04
, 2G051EA14
, 2G051EB01
, 2G051EB02
, 2G051EC03
, 5B057CA08
, 5B057CA12
, 5B057CA16
, 5B057CB08
, 5B057CB12
, 5B057CB16
, 5B057CC01
, 5B057CE08
, 5B057CE20
, 5B057CH08
, 5B057CH20
, 5B057DA03
, 5B057DB02
, 5B057DB09
, 5B057DC22
