特許
J-GLOBAL ID:200903067957150511

高純度硫酸ニッケル水溶液の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 河備 健二
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-184266
公開番号(公開出願番号):特開2008-013387
出願日: 2006年07月04日
公開日(公表日): 2008年01月24日
要約:
【課題】硫酸ニッケル水溶液に含まれるコバルト及びカルシウムと酸性有機抽出剤に保持されたニッケルとの交換反応により、コバルトとカルシウムを該抽出剤中に選択的に抽出して高純度硫酸ニッケル水溶液を製造する際に、硫酸ニッケル水溶液中のカルシウム、コバルト等の不純物元素濃度、又はニッケルを保持させた酸性有機抽出剤中のニッケル濃度が変動しても、安定してコバルト及びカルシウムを分離することができる高純度硫酸ニッケル水溶液の製造方法を提供する。【解決手段】コバルト及びカルシウムを含む硫酸ニッケル水溶液からなる水相と、ニッケルを保持させた酸性有機抽出剤と実質的に金属イオンを含まない酸性有機抽出剤からなる混合液を含む有機相を接触させながら、pH調整剤として硫酸を添加し、水相のpHを4.0〜5.0に調整して、コバルトとカルシウムを該有機相中に選択的に抽出することを特徴とする。【選択図】なし
請求項(抜粋):
コバルト及びカルシウムを含む硫酸ニッケル水溶液からなる水相と、ニッケルを保持させた酸性有機抽出剤と実質的に金属イオンを含まない酸性有機抽出剤からなる混合液を含む有機相を接触させながら、pH調整剤として硫酸を添加し、水相のpHを4.0〜5.0に調整して、コバルトとカルシウムを該有機相中に選択的に抽出することを特徴とする高純度硫酸ニッケル水溶液の製造方法。
IPC (1件):
C01G 53/10
FI (1件):
C01G53/10
Fターム (5件):
4G048AA07 ,  4G048AB08 ,  4G048AC06 ,  4G048AC08 ,  4G048AE05
引用特許:
出願人引用 (3件)

前のページに戻る