特許
J-GLOBAL ID：200903068007311035
膜厚モニター及びこれを用いた成膜装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石島 茂男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-041176
公開番号（公開出願番号）：特開平11-222670
出願日： 1998年02月06日
公開日（公表日）： 1999年08月17日
要約：
【要約】【課題】メンテナンスの間隔を長くすることによって成膜処理の効率を向上しうる膜厚モニター及び成膜装置を提供する。【解決手段】本発明の膜厚モニター8は、真空中において付着する蒸発材料5の量に応じて共振周波数が変化する水晶振動子10の当該周波数変化量に基づいて基板3上の膜厚を測定するもので、水晶振動子10に向って飛翔する蒸発材料5の蒸気7を間欠的に遮蔽する遮蔽手段11を有する。遮蔽手段11は、駆動手段12と、駆動手段12によって回転される遮蔽板13とから構成される。遮蔽板13は円盤形状に形成され、その周縁の一部に切り欠き部13aが設けられている。切り欠き部13aは、膜厚モニター8の水晶振動子10の直径より若干大きい幅で形成される。切り欠き部13aが水晶振動子10と対向する位置にあるときには、この切り欠き部13aから水晶振動子10が露出する。
請求項（抜粋）：
真空中において付着する成膜材料の量に応じて共振周波数が変化する水晶振動子の当該周波数変化量に基づいて成膜対象物上の膜厚を測定する膜厚モニターであって、上記水晶振動子に向って飛翔する上記成膜材料を間欠的に遮蔽する遮蔽手段を有することを特徴とする膜厚モニター。
IPC (5件)：
C23C 14/24
, C23C 14/52
, G01B 17/02
, H01L 41/09
, H03H 3/04
C23C 14/24 U
, C23C 14/52
, G01B 17/02 A
, H03H 3/04 A
, H01L 41/08 C
