特許

J-GLOBAL ID：200903068090007229

表面反射防止膜用組成物

発明者： 西 峰雄 ,  寺本 正史
出願人/特許権者： 三菱化学株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-065993
公開番号（公開出願番号）：特開平8-320569
出願日： 1996年03月22日
公開日（公表日）： 1996年12月03日
要約：

【要約】【目的】 低屈折率(1.4以下)であり、且つ水媒体にて良好に塗布膜を形成、除去ができ、且つ、残渣(スカム)等の問題も発生しないフォトレジスト用表面反射防止膜用組成物を提供する。【構成】 水溶性フッ素化合物及び水を主成分とする表面反射防止膜用組成物において、水溶性フッ素化合物として、?@1気圧、20°Cにおいて固体である水溶性フッ素化合物、?A1気圧、20°Cにおいて液状であり、且つ1気圧での沸点が100°C以上である水溶性フッ素化合物の双方を含有することを特徴とする表面反射防止膜用組成物。

請求項（抜粋）：

水溶性フッ素化合物及び水を主成分とする表面反射防止膜用組成物において、水溶性フッ素化合物として、?@1気圧、20°Cにおいて固体である水溶性フッ素化合物、?A1気圧、20°Cにおいて液状であり、且つ1気圧での沸点が100°C以上である水溶性フッ素化合物の双方を含有することを特徴とする表面反射防止膜用組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/11 501 ,  C09D171/02 PLQ ,  G02B 1/11 ,  H01L 21/027 ,  G03F 7/004 506

FI (5件)：

G03F 7/11 501 ,  C09D171/02 PLQ ,  G03F 7/004 506 ,  G02B 1/10 A ,  H01L 21/30 574

引用特許：

審査官引用 (2件)

• レジスト表面反射防止膜形成性組成物及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-126265   出願人：三菱化成株式会社
• 反射防止膜材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-088202   出願人：信越化学工業株式会社