特許
J-GLOBAL ID：200903068195499470
スパッタリングターゲットとそれを用いた保護膜および光記録媒体
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-062349
公開番号（公開出願番号）：特開2000-256840
出願日： 1999年03月09日
公開日（公表日）： 2000年09月19日
要約：
【要約】【課題】 光記録媒体の記録層の保護膜形成などに用いられるZnSとSiO2などとを含むスパッタリングターゲットにおいて、それを用いて形成した保護膜のオーバーライトや初期化などによる剥がれを抑制する。【解決手段】 ZnSとそれと互いに固溶し合わない金属化合物から選ばれる少なくとも1種とを含むスパッタリングターゲットにおいて、金属化合物をZnS中に均一に分散配置する。金属化合物の平均粒径は、例えばターゲット全体として100μm以下とし、かつターゲットの各部位において100μm以下とする。さらに、各部位における金属化合物の平均粒径は、ターゲット全体の平均粒径に対してそのばらつきが±20%以内となるように制御する。
請求項（抜粋）：
ZnSと、前記ZnSと互いに固溶し合わない金属化合物から選ばれる少なくとも1種とを含むスパッタリングターゲットにおいて、前記金属化合物は前記ZnS中に均一に分散配置されていることを特徴とするスパッタリングターゲット。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 14/34 A
, G11B 5/84 B
4K029BA41
, 4K029BD00
, 4K029DC05
, 4K029DC09
, 5D112AA07
, 5D112AA24
, 5D112BC07
, 5D112FA04
, 5D112FB06
