特許
J-GLOBAL ID：200903068218643212

プラズマ処理装置

発明者：
佐藤 亮

佐藤 亮 について

, 
齊藤 均

齊藤 均 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 井上 俊夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-091633
公開番号（公開出願番号）：特開2009-246172
出願日： 2008年03月31日
公開日（公表日）： 2009年10月22日
要約：
【課題】平行平板型のプラズマ処理装置において、カソード電極と排気口を覆うメッシュ部材との間における異常放電の発生を抑えることができるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】 処理容器20内に対向して設けられたアノード電極(ガスシャワーヘッド40)及びカソード電極(載置台3)間に高周波電力を印加して処理ガスをプラズマ化し、被処理体Sをプラズマ処理するプラズマ処理装置2において、開口部を備えた導電性部材(メッシュ部材51)は前記カソード電極周辺に配置され、処置ガスを排気する排気口を覆い、誘電体52は導電性部材と処理容器20の導電性の壁部との間に介在して設けられている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
処理容器内に互いに対向して設けられたアノード電極及びカソード電極間に高周波電力を印加して処理ガスをプラズマ化し、被処理体に対してプラズマ処理を行うプラズマ処理装置において、 前記カソード電極周辺に配置され、前記処理ガスを排気する排気口と、 この排気口を覆い、当該排気口へ排気される処理ガスを通流させる開口部を備えた導電性部材と、 この導電性部材と前記処理容器の導電性の壁部との間に介在して設けられた誘電体と、を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/306 ,  H05H 1/46 ,  C23C 16/44
FI (3件)：
H01L21/302 101B ,  H05H1/46 M ,  C23C16/44 E
Fターム (8件)：
4K030EA11 ,  4K030FA03 ,  4K030JA09 ,  4K030KA45 ,  4K030KA46 ,  5F004BA04 ,  5F004BB29 ,  5F004BC02
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • プラズマ処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-381290   出願人：東京エレクトロン株式会社
審査官引用 (5件)
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