特許
J-GLOBAL ID：200903068321437949
ガス処理方法および装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-305490
公開番号（公開出願番号）：特開平10-135125
出願日： 1996年11月01日
公開日（公表日）： 1998年05月22日
要約：
【要約】【課題】パーティクルの付着や処理の不均一等が生じず、良好なガス処理を行うことができるガス処理方法および装置を提供すること。【解決手段】処理室71内の被処理体Wの中央部に、被処理体Wに対して垂直に処理ガスを供給してガス処理を実施する工程と、ガス処理終了後、処理室71内に被処理体Wに対して処理ガスよりも傾いた角度で置換ガスを供給する工程と、処理ガスを供給する際および置換ガスを供給する際に、処理室71内を排気する工程とによりガス処理が終了する。
請求項（抜粋）：
処理室内の被処理体に対して処理ガスを供給してガス処理を実施する工程と、ガス処理終了後、前記処理室内に置換ガスを供給する工程と、前記処理ガス供給する際および前記置換ガスを供給する際に、前記処理室内を排気する工程と、を有し、前記処理ガスと前記置換ガスとを互いに異なる流路を通って供給することを特徴とするガス処理方法。
IPC (5件)：
H01L 21/027
, H01L 21/02
, H01L 21/205
, H01L 21/304 341
, H01L 21/304 361
H01L 21/30 563
, H01L 21/02 Z
, H01L 21/205
, H01L 21/304 341 G
, H01L 21/304 361 H
