特許
J-GLOBAL ID:200903068369984259
ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (5件):
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 青山 正和
, 鈴木 三義
, 柳井 則子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-155420
公開番号(公開出願番号):特開2008-309887
出願日: 2007年06月12日
公開日(公表日): 2008年12月25日
要約:
【課題】レジスト組成物用酸発生剤として好適な新規化合物を含有するポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】樹脂成分(A)及び酸発生剤成分(B)を含有するポジ型レジスト組成物であって、(A)成分は、ヒドロキシスチレンから誘導される構成単位(a1)と、アセタール型酸解離性溶解抑制基を有する構成単位(a2)とを含み、(B)成分は、水酸基または酸解離性基を有する炭酸エステルで保護ざれた水酸基を有する9-フェニルチオカルバゾール誘導体のカチオンからなる酸発生剤(B1)を含むことを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】なし
請求項(抜粋):
酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂成分(A)および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するポジ型レジスト組成物であって、
前記樹脂成分(A)は、ヒドロキシスチレンから誘導される構成単位(a1)と、下記一般式(a2-1)または(a2-2)で表される構成単位(a2)とを含み、かつ、前記酸発生剤成分(B)は、下記一般式(b1-1)で表される化合物からなる酸発生剤(B1)を含むことを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (5件):
G03F 7/039
, G03F 7/004
, H01L 21/027
, C08F 212/14
, C08F 220/28
FI (6件):
G03F7/039 601
, G03F7/004 503A
, G03F7/004 501
, H01L21/30 502R
, C08F212/14
, C08F220/28
Fターム (32件):
2H025AA02
, 2H025AA03
, 2H025AB14
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC06
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE07
, 2H025BF02
, 2H025BF15
, 2H025BG00
, 2H025CC20
, 2H025FA17
, 4J100AB07P
, 4J100AL08Q
, 4J100BA02Q
, 4J100BA03P
, 4J100BA03Q
, 4J100BA11Q
, 4J100BA15Q
, 4J100BC02Q
, 4J100BC03Q
, 4J100BC04Q
, 4J100BC08Q
, 4J100BC09Q
, 4J100BC12Q
, 4J100BC53Q
, 4J100CA04
, 4J100DA01
, 4J100DA04
, 4J100JA38
引用特許:
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