特許
J-GLOBAL ID:200903068741487992
粗製無水酢酸の精製法及び無水酢酸を用いたポリオキシテトラメチレングリコールの製造法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
▲吉▼川 俊雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-039180
公開番号(公開出願番号):特開2001-226319
出願日: 2000年02月17日
公開日(公表日): 2001年08月21日
要約:
【要約】【課題】 PTMG等の品質を向上し得る粗製無水酢酸の精製法を提供する。【解決手段】 粗製無水酢酸の精製法において、粗製無水酢酸を蒸留した後、オゾン発生器1で発生させたオゾン含有空気と、蒸留後の粗製無水酢酸とを充填塔2に送ってオゾン処理する。このように蒸留後にオゾン処理することで、ジケテン含有量が検出限界以下の精製無水酢酸を得ることができ、この無水酢酸を用いることによって、殆ど無色透明で色相に優れたPTMGを製造することができる。
請求項(抜粋):
蒸留した後にオゾン含有ガスで処理することを特徴とする粗製無水酢酸の精製法。
IPC (3件):
C07C 51/573
, C07C 53/12
, C08G 65/20
FI (3件):
C07C 51/573
, C07C 53/12
, C08G 65/20
Fターム (5件):
4H006AA02
, 4H006AD11
, 4H006AD30
, 4J005AA08
, 4J005BB02
引用特許:
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