特許
J-GLOBAL ID：200903068750020070
オルガノハロシラン直接製造方法における珪素メタロイドを選択する方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-213969
公開番号（公開出願番号）：特開2000-053596
出願日： 1999年07月28日
公開日（公表日）： 2000年02月22日
要約：
【要約】【課題】 オルガノハロシラン直接製造法で用いるための薬品級珪素を選択する方法。【解決手段】 薬品級珪素メタロイドの試料を、前記薬品級珪素メタロイド中に存在する酸化物不純物を段階的に還元するように制御した温度上昇速度によって2300°Cより高い温度へ炭素源の存在下で加熱し、それにより一酸化炭素及び二酸化炭素からなる還元生成物を形成させ、1900°Cより高い温度で形成された還元生成物の量に基づき珪素メタロイドの酸素濃度を決定し、そして前記酸素濃度に基づいて、オルガノハロシランの直接製造方法に用いるための薬品級珪素メタロイドを選択する、ことからなる薬品級珪素メタロイド選択方法。
請求項（抜粋）：
オルガノハロシランの直接製造方法における改良された性能のために薬品級珪素メタロイドを選択する方法において、(A)薬品級珪素メタロイドの試料を、前記薬品級珪素メタロイド中に存在する酸化物不純物を段階的に還元するように制御した温度上昇速度によって2300°Cより高い温度へ炭素源の存在下で加熱し、それにより一酸化炭素及び二酸化炭素からなる還元生成物を形成し、(B)1900°Cより高い温度で形成された還元生成物の量に基づき珪素メタロイドの酸素濃度を決定し、そして(C)前記酸素濃度に基づいて、オルガノハロシランの直接製造方法に用いるための薬品級珪素メタロイドを選択する、ことからなる薬品級珪素メタロイド選択方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
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