特許
J-GLOBAL ID：200903068759305352

ガスの同位体存在比率を測定する方法及びそのためのシステム

発明者：
西尾 晋

西尾 晋 について

, 
大田 晴也

大田 晴也 について


出願人/特許権者：
東京瓦斯株式会社

東京瓦斯株式会社 について


代理人 (1件)： 加茂 裕邦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-246020
公開番号（公開出願番号）：特開2006-064484
出願日： 2004年08月25日
公開日（公表日）： 2006年03月09日
要約：
【課題】メタンその他のガスの同位体と質量数が近い不純物が含まれるガスの同位体存在比率をメタンの改質や、一般的なガスクロマトグラフ装置にある六方弁や計量管といった器具を必要とせずに測定する方法及びシステムを得る。【解決手段】測定ガス容器から質量分析計に至る導管に吸着剤を充填した不純物除去管を配置するとともに、該不純物除去管への導管に測定ガスの質量数に近接しないガスを供給する導管を臨ませ、該測定ガスの質量数に近接しないガスを常に大気圧で供給するようにしてなるシステムを用い、測定ガスの質量数に近接しないガスを不純物除去管へ流しながら、測定ガスを流し、質量分析計へ流入するガス圧を常に大気圧にして被処理ガスの同位体存在比率を測定することを特徴とするガスの同位体存在比率を測定する方法及びそのためのシステム。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
同位体ガスと質量数が近い不純物が含まれるガスの同位体存在比率を測定する方法であって、測定ガス容器から質量分析計に至る導管に吸着剤を充填した不純物除去管を配置するとともに、該不純物除去管への導管に測定ガスの質量数に近接しないガスを供給する導管を臨ませ、該測定ガスの質量数に近接しないガスを常に大気圧で供給するようにしてなるシステムを用い、測定ガスの質量数に近接しないガスを不純物除去管へ流しながら、測定ガスを流し、質量分析計へ流入するガス圧を常に大気圧にして該測定ガスの同位体存在比率を測定することを特徴とするガスの同位体存在比率を測定する方法。
IPC (1件)：
G01N 27/62
FI (2件)：
G01N27/62 V ,  G01N27/62 F
引用特許：
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM