特許
J-GLOBAL ID：200903068775688679

X線解析装置

発明者：
須藤 修三

須藤 修三 について

, 
中島 邦雄

中島 邦雄 について


出願人/特許権者：
セイコー電子工業株式会社

セイコー電子工業株式会社 について


代理人 (1件)： 林 敬之助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-091688
公開番号（公開出願番号）：特開平6-300718
出願日： 1993年04月19日
公開日（公表日）： 1994年10月28日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 試料に大きな位置変化を与えることにより、試料の微小領域のX線解析を容易にする。【構成】 X線発生装置1’に集光結像作用のある作動距離の長いX線光学素子を組み合わせて、その焦点面上に、ゴニオステージ15と回転ステージ13と三軸精密移動可能な直進ステージ17、18、19とを装着した試料走査台10の回転中心を、前記X線光学素子の焦点面上に配置し、さらに前記試料走査台10を中心とし回転可能なX線位置検出器あるいはX線エネルギー検出器を配置する。
請求項（抜粋）：
X線発生装置と、前記X線発生装置からのX線を集光結像するX線光学素子と、回転あおり機構を有する試料走査台と、X線検出部とからなるX線解析装置において、前記X線光学素子の集光点と前記X線光学素子との間の距離は1cm以上であり、かつ、前記集光点におけるX線のエネルギー強度は5keV以上であることを特徴とするX線解析装置。
IPC (2件)：
G01N 23/207 ,  G21K 5/10
引用特許：
審査官引用 (7件)
  • 特開昭59-072052
  • 特開昭62-106352
  • 特開昭61-022240
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