特許
J-GLOBAL ID：200903068801037967

パターン形成方法および電子素子の製造方法

発明者：
福田 敏生

福田 敏生 について

, 
野元 章裕

野元 章裕 について


出願人/特許権者：
ソニー株式会社

ソニー株式会社 について


代理人 (1件)： 船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-092179
公開番号（公開出願番号）：特開2008-251888
出願日： 2007年03月30日
公開日（公表日）： 2008年10月16日
要約：
【課題】液組成物塗膜の状態を安定させて、微細で精密なパターンを再現性よく安定して形成することが可能なパターン形成方法および電子素子の製造方法を提供する。【解決手段】第1版10上に液組成物を塗布することで、導電性膜Dを形成するとともに、第1版10を加熱する第1工程と、表面側に凹凸パターン形状を有する第2版20を、第1版10の導電性膜Dの形成面側に押圧し、第2版20の凸部20aの頂面に、導電性膜Dの不要なパターンを転写して除去することで、第1版10上に導電性パターンD’を形成する第2工程と、第1版10の導電性パターンD’の形成面側を、被転写基板の表面に押圧することで、被転写基板の表面に導電性パターンD’を転写する第3工程とを有し、上記液組成物は、加熱された第1版10の表面温度において133Pa以下の蒸気圧を示す溶媒を含有してなることを特徴とするパターン形成方法および電子素子の製造方法。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
第1版上に液組成物を塗布することで、液組成物塗膜を形成するとともに、当該第1版を加熱する第1工程と、 表面側に凹凸パターンを有する第2版を、前記第1版の前記液組成物塗膜の形成面側に押圧し、当該第2版の凸部の頂面に、前記液組成物塗膜の不要なパターンを転写して除去することで、前記第1版上にパターンを形成する第2工程と、 前記第1版の前記パターンの形成面側を、被転写基板の表面に押圧することで、当該被転写基板の表面に前記パターンを転写する第3工程とを有し、 前記液組成物は、加熱された前記第1版の表面温度において133Pa以下の蒸気圧を示す溶媒を含有してなる ことを特徴とするパターン形成方法。
IPC (4件)：
H01L 21/320 ,  H01L 21/288 ,  H01L 21/336 ,  H01L 29/786
FI (5件)：
H01L21/88 B ,  H01L21/288 Z ,  H01L29/78 616K ,  H01L29/78 617J ,  H01L29/78 627D
Fターム (42件)：
4M104AA09 ,  4M104AA10 ,  4M104BB04 ,  4M104BB05 ,  4M104BB06 ,  4M104BB08 ,  4M104BB09 ,  4M104CC01 ,  4M104CC05 ,  4M104DD51 ,  4M104DD61 ,  4M104DD78 ,  4M104GG08 ,  4M104GG20 ,  4M104HH14 ,  5F033HH07 ,  5F033HH11 ,  5F033HH13 ,  5F033HH14 ,  5F033PP26 ,  5F033QQ00 ,  5F033QQ73 ,  5F033VV06 ,  5F033VV15 ,  5F033XX03 ,  5F110AA16 ,  5F110AA26 ,  5F110BB01 ,  5F110BB20 ,  5F110CC03 ,  5F110DD05 ,  5F110DD24 ,  5F110EE02 ,  5F110EE08 ,  5F110EE42 ,  5F110FF01 ,  5F110GG05 ,  5F110GG42 ,  5F110HK02 ,  5F110HK32 ,  5F110QQ06 ,  5F110QQ16
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (8件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM