脱臭処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：廣江武典
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-197481
公開番号（公開出願番号）：特開2002-011322
出願日： 2000年06月30日
公開日（公表日）： 2002年01月15日
要約：

【要約】【課題】悪臭ガス(被処理ガス)を効率的、かつ確実に除去できるようにした脱臭処理装置を提供すること。【解決手段】ガス流入口14から装置11内に供給した被処理ガスを、該装置11内に配置したガス処理部により脱臭処理し、脱臭処理後の処理済ガスをガス流出口26から排出するようにした脱臭処理装置において、該装置11は第1ガス処理部12と第2ガス処理部13とからなり、前記第1ガス処理部12は、上下方向に間隔をおいて配置した散水装置18と、消臭剤が充填されており、前記散水装置18間にそれぞれ配置した第1充填層17とを有しており、前記第2ガス処理部13は、仕切壁23を介して水平方向に層状に配置した消臭剤を充填した第2充填層24を有していることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

ガス流入口から装置内に供給した被処理ガスを、装置内に配置したガス処理部により脱臭処理し、脱臭処理後の処理済ガスをガス流出口から排出するようにした脱臭処理装置において、該装置は第1ガス処理部と第2ガス処理部とからなり、前記第1ガス処理部は、上下方向に間隔をおいて配置した散水装置と、消臭剤が充填されており、前記散水装置間にそれぞれ配置した第1充填層とを有しており、前記第2ガス処理部は、仕切壁を介して水平方向に層状に配置した消臭剤を充填した第2充填層を有していることを特徴とする脱臭処理装置。

IPC (4件)：

B01D 53/38 , B01D 53/75 , A61L 9/16 , B01D 53/34 ZAB

FI (3件)：

A61L 9/16 D , B01D 53/34 116 E , B01D 53/34 ZAB

Fターム (32件)：

4C080AA05 , 4C080BB02 , 4C080CC03 , 4C080CC04 , 4C080CC05 , 4C080CC13 , 4C080CC15 , 4C080HH03 , 4C080HH05 , 4C080HH09 , 4C080KK06 , 4C080KK08 , 4C080LL10 , 4C080MM05 , 4C080MM06 , 4C080MM33 , 4C080NN01 , 4C080QQ11 , 4C080QQ17 , 4D002AB02 , 4D002AC10 , 4D002BA02 , 4D002BA03 , 4D002BA04 , 4D002BA17 , 4D002CA01 , 4D002CA07 , 4D002DA35 , 4D002DA41 , 4D002DA46 , 4D002DA59 , 4D002EA02

引用特許：

審査官引用 (5件)

消臭装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-326044 出願人：福井県
埋設型生物脱臭設備
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-181366 出願人：旭硝子エンジニアリング株式会社
生物脱臭装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-196452 出願人：鶴見曹達株式会社, 阿部孝雄

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