特許
J-GLOBAL ID：200903068898523046

マイクロ波照射処理装置

発明者：
嶋田 清

嶋田 清 について

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栗山 一政

栗山 一政 について

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生駒 俊治

生駒 俊治 について

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野畑 博敬

野畑 博敬 について


出願人/特許権者：
島田理化工業株式会社

島田理化工業株式会社 について


代理人 (1件)： 萩原 誠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-188139
公開番号（公開出願番号）：特開2006-012605
出願日： 2004年06月25日
公開日（公表日）： 2006年01月12日
要約：
【課題】マイクロ波の照射を処理物の上下面のみならず側面からも照射可能にし、処理物の乾燥ムラまたは加熱ムラを確実に防ぐマイクロ波照射処理装置を提供する。【解決手段】処理槽10内に処理物1を搬入して上下面の両方から導波管16を介してマイクロ波発生器12a、13aで発生させたマイクロ波を導入及び照射して乾燥または温度を上げるマイクロ波照射処理装置であって、処理物1を前面から後面に搬送して処理するコンベア11の処理槽10を備え、この処理槽10にマイクロ波を上下面の両方から照射可能な第1照射手段12と、この第1照射手段12に加えて処理物1両方の側面からも照射可能な第2照射手段13とを備える。ここで、マイクロ波発生器12a、13aには、処理槽10に導波管16を介して各方向からそれぞれ同時または別々にマイクロ波を照射可能に制御する制御手段19を接続する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
処理槽内に処理物を搬入して上下面のいずれか一方或いは両方から導波管を介してマイクロ波発生器で発生させたマイクロ波を導入及び照射して乾燥または温度を上げるマイクロ波照射処理装置において、 前記処理物を前面から後面に搬送して処理するコンベア式の処理槽を備え、この処理槽にマイクロ波を前記上下面いずれか一方或いは両方から照射可能な第1照射手段と、この第1照射手段に加えて前記処理物の左右どちらか一方或いは両方の側面からも照射可能な第2照射手段とを備えたことを特徴とするマイクロ波照射処理装置。
IPC (8件)：
H05B 6/78 ,  B01J 19/12 ,  F26B 3/347 ,  F26B 15/18 ,  F26B 21/10 ,  H05B 6/68 ,  H05B 6/70 ,  H05B 6/72
FI (9件)：
H05B6/78 B ,  B01J19/12 A ,  F26B3/347 ,  F26B15/18 A ,  F26B21/10 A ,  H05B6/68 320D ,  H05B6/68 320Q ,  H05B6/70 E ,  H05B6/72 D
Fターム (39件)：
3K086AA01 ,  3K086CA03 ,  3K086CA04 ,  3K086CB04 ,  3K086CC01 ,  3K086DA02 ,  3K090AA01 ,  3K090AB04 ,  3K090AB13 ,  3K090AB20 ,  3K090CA01 ,  3K090CA18 ,  3K090CA21 ,  3K090NA01 ,  3K090NA07 ,  3L113AA02 ,  3L113AA03 ,  3L113AB02 ,  3L113AB07 ,  3L113AC12 ,  3L113AC45 ,  3L113AC66 ,  3L113BA04 ,  3L113BA34 ,  3L113CA08 ,  3L113CB07 ,  3L113DA11 ,  4G075AA01 ,  4G075BA10 ,  4G075BB02 ,  4G075BB10 ,  4G075CA02 ,  4G075CA26 ,  4G075DA01 ,  4G075EA06 ,  4G075EB15 ,  4G075EB31 ,  4G075EB46 ,  4G075ED11
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (1件)

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