特許
J-GLOBAL ID：200903068919133340
基板処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大坪 隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-306492
公開番号（公開出願番号）：特開2004-146414
出願日： 2002年10月22日
公開日（公表日）： 2004年05月20日
要約：
【課題】処理液の使用量を増加させることなく、レジストの析出等を防止して基板を高品質に処理することが可能な基板処理装置を提供することを目的とする。【解決手段】基板処理装置は、薬液貯留槽31に貯留された剥離液を第1薬液供給ノズル32に送液する第1薬液供給路33と、基板1に供給された剥離液を薬液貯留槽31に回収する第1薬液回収路34とを有する第1薬液処理機構3と、新液供給槽41から第2薬液供給ノズル42に新しい剥離液を送液する第2薬液供給路43と、基板1に供給された新しい剥離液を薬液貯留槽31に回収する第2薬液回収路44とを有する第2薬液処理機構4と、純水供給部51から純水供給ノズル52に純水を送液する純水供給路53を有する純水処理機構5とを備える。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
薬液を貯留する薬液貯留槽と、基板に薬液を供給するための第1薬液供給ノズルと、前記薬液貯留槽に貯留された薬液を前記第1薬液供給ノズルに送液する第1薬液供給路と、前記第1薬液供給ノズルから基板に供給された薬液を前記薬液貯留槽に回収する第1薬液回収路とを有する第1薬液処理機構と、
新しい薬液を供給する新液供給部と、前記第1薬液処理機構により処理された基板に対して薬液を供給するための第2薬液供給ノズルと、前記新液供給部から前記第2薬液供給ノズルに新しい薬液を送液する第2薬液供給路と、前記第2薬液供給ノズルから基板に供給された薬液を前記薬液貯留槽、前記第1薬液回収路または前記第1薬液供給路のいずれかに回収する第2薬液回収路とを有する第2薬液処理機構と、
純水を供給する純水供給部と、前記第2薬液処理機構により処理された基板に対して純水を供給するための純水供給ノズルと、前記純水供給部から前記純水供給ノズルに純水を送液する純水供給路とを有する純水処理機構と、
を備えたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (4件)：
H01L21/304
, B05B13/02
, B05B15/04
, H01L21/027
H01L21/304 643B
, H01L21/304 641
, H01L21/304 648F
, B05B13/02
, B05B15/04 103
, H01L21/30 572B
4D073BB01
, 4D073DB10
, 4F035AA02
, 4F035CA05
, 4F035CB03
, 4F035CB13
, 4F035CC01
, 4F035CC04
, 5F046MA02
, 5F046MA10
