光学的素子及びその製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：逢坂宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-087216
公開番号（公開出願番号）：特開平9-260064
出願日： 1996年03月15日
公開日（公表日）： 1997年10月03日
要約：

【要約】【課題】アノードの抵抗を低下させた整流性の高い光学的素子及びその製造方法を提供すること。【解決手段】基板6とITO透明電極5との間に導電層9を設け、この導電層9の側面9aが基体6側にかけてその膜厚が減少するように傾斜させて形成し、この上にITO透明電極5、ホール輸送層4、発光層3、電子輸送層2及び金属輸送層1を積層して素子を作製する。

請求項（抜粋）：

基体上に電極と有機層とがこの順に積層されてなる光学的素子において、前記電極よりも導電性の高い導電層が前記基体と前記電極との間にこの電極に接して電極の一部分として設けられ、前記導電層の側面での層厚が前記基体側にかけて減少するように前記側面が前記基体側へ傾斜していることを特徴とする光学的素子。

引用特許：

審査官引用 (10件)

特開平4-254887
特開平2-165592
特開平2-281237

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