特許
J-GLOBAL ID：200903068957198138

F2エキシマレーザー透過用光学シリカガラス部材及びその製造方法

発明者：
柳沼 康之

柳沼 康之 について

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藤ノ木 朗

藤ノ木 朗 について

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西村 裕幸

西村 裕幸 について

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横田 透

横田 透 について


出願人/特許権者：
信越石英株式会社

信越石英株式会社 について


代理人 (1件)： 高橋 昌久 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-261772
公開番号（公開出願番号）：特開2001-089170
出願日： 1999年09月16日
公開日（公表日）： 2001年04月03日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、光透過性や耐レーザー性や複屈折量、均質性等の光学的特性を総合的に満足させたF2エキシマレーザー透過用光学シリカガラス部材の提供を目的とする。【構成】 珪素を含む化合物を気相中で火炎加水分解し、得られたシリカ微粒子を耐熱性基体上に堆積させて多孔質母材を構成した後、透明ガラス化により得られた透明ガラス体をから製作されるエキシマレーザー透過用光学シリカガラス部材において、該多孔質母材を形成した後、透明ガラス化する前に、該多孔質母材にOH基低減処理と酸素欠乏欠陥除去処理、フッ素ドープ処理とを行うことにより、フッ素濃度を0.1〜2.0mol、OH基の濃度を5ppm以下としたことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
珪素を含む化合物を気相中で火炎加水分解し、得られたシリカ微粒子を耐熱性基体上に堆積させて多孔質母材を構成した後、透明ガラス化して得られた透明ガラス体を用いて形成されるエキシマレーザー透過用光学シリカガラスにおいて、前記多孔質母材を生成した後、透明ガラス化する前に、該多孔質母材にOH基低減処理と酸素欠乏欠陥除去処理、フッ素ドープ処理とを同時又は時系列的に組み合せて実施することにより、フッ素濃度を0.1〜2.0mol、OH基の濃度を5ppm以下としたことを特徴とするF2エキシマレーザー透過用光学シリカガラス部材。
IPC (5件)：
C03B 20/00 ,  C03B 8/04 ,  C03C 3/06 ,  G02B 1/00 ,  H01L 21/027
FI (6件)：
C03B 20/00 F ,  C03B 20/00 E ,  C03B 8/04 M ,  C03C 3/06 ,  G02B 1/00 ,  H01L 21/30 515 D
Fターム (66件)：
4G014AH14 ,  4G014AH21 ,  4G062AA04 ,  4G062BB02 ,  4G062CC06 ,  4G062DA08 ,  4G062DB01 ,  4G062DC01 ,  4G062DD01 ,  4G062DE01 ,  4G062DF01 ,  4G062EA01 ,  4G062EA10 ,  4G062EB01 ,  4G062EC01 ,  4G062ED01 ,  4G062EE01 ,  4G062EF01 ,  4G062EG01 ,  4G062FA01 ,  4G062FA10 ,  4G062FB01 ,  4G062FC01 ,  4G062FD01 ,  4G062FE01 ,  4G062FF01 ,  4G062FG01 ,  4G062FH01 ,  4G062FJ01 ,  4G062FK01 ,  4G062FL01 ,  4G062GA01 ,  4G062GB01 ,  4G062GC01 ,  4G062GD01 ,  4G062GE02 ,  4G062HH01 ,  4G062HH03 ,  4G062HH05 ,  4G062HH07 ,  4G062HH09 ,  4G062HH11 ,  4G062HH13 ,  4G062HH15 ,  4G062HH17 ,  4G062HH20 ,  4G062JJ01 ,  4G062JJ03 ,  4G062JJ05 ,  4G062JJ07 ,  4G062JJ10 ,  4G062KK01 ,  4G062KK03 ,  4G062KK05 ,  4G062KK07 ,  4G062KK10 ,  4G062MM02 ,  4G062MM04 ,  4G062NN01 ,  4G062NN40 ,  5F046BA03 ,  5F046CA04 ,  5F046CA08 ,  5F046CB08 ,  5F046CB12 ,  5F046CB17
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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