特許

J-GLOBAL ID：200903069006992590

ガス調製管及びガス調製装置

発明者： 元芳 園子 ,  柳下 皓男
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 眞鍋 潔 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-219317
公開番号（公開出願番号）：特開2003-035635
出願日： 2001年07月19日
公開日（公表日）： 2003年02月07日
要約：

【要約】【課題】 ガス調製管及びガス調製装置に関し、恒温槽内の汚染を防止するとともに、ガス種の切替えを速やかに行って、低濃度の標準ガスを高精度に調製する。【解決手段】 被調製ガスを発生させる物質を収容した容器を収納するガス気化部1と、ガス気化部1に希釈ガスを導入する希釈ガス導入管8と、希釈ガスによって希釈された被調製ガスを導出する調製ガス導出管7を備えたガス導出入配管部2によりガス調製管を構成する。

請求項（抜粋）：

被調製ガスを発生させる物質を収容した容器を収納するガス気化部、前記ガス気化部に希釈ガスを導入する希釈ガス導入管と、希釈ガスによって希釈された前記被調製ガスを導出する調製ガス導出管を備えたガス導出入配管部からなることを特徴とするガス調製管。

Fターム (6件)：

2G052AA39 ,  2G052AB27 ,  2G052AD02 ,  2G052AD32 ,  2G052FD01 ,  2G052HC22

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 一定・低濃度のVOC含有気体の作製方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-060246   出願人：日立化成工業株式会社
• ガス状物質の分析装置及びガス状物質の分析方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-317611   出願人：株式会社東芝
• 標準ガス調製方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-298097   出願人：株式会社日立製作所, 日立東京エレクトロニクス株式会社
• 特開平3-197834