特許
J-GLOBAL ID：200903069083892647

液晶表示装置の製造方法

発明者：
澤山 豊

澤山 豊 について

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津田 和彦

津田 和彦 について

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水嶋 繁光

水嶋 繁光 について


出願人/特許権者：
シャープ株式会社

シャープ株式会社 について


代理人 (1件)： 原 謙三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-092389
公開番号（公開出願番号）：特開2001-075090
出願日： 2000年03月29日
公開日（公表日）： 2001年03月23日
要約：
【要約】【課題】 層間絶縁膜の膜厚分布を小さくして安定したセル厚を得ることができ、さらに該層間絶縁膜の厚膜化を容易に行うことができる液晶表示装置の製造方法を実現する。【解決手段】 POP構造の液晶表示装置の製造方法において、層間絶縁膜3を形成する際にドライフィルムレジスト18を用いる。該ドライフィルムレジスト18は、ベースフィルム19上に感光性樹脂20を均一に塗布し、さらに該感光性樹脂20の膜面に保護フィルム層21が形成されて作製される。ガラス基板1付近まで誘導されたドライフィルムレジスト18は、転写直前に保護フィルム21が剥離され、転写ローラ25により上記ガラス基板1に感光性樹脂20が加熱・圧着されて、層間絶縁膜3が形成される。
請求項（抜粋）：
液晶層を介して対向配置される一対の基板のうち、少なくとも一方の基板が透光性を有する透光性基板であり、該透光性基板に対向配置される背面基板上に層間絶縁膜を介して画素電極が形成されて、該層間絶縁膜に形成されたコンタクトホールを介して下層電極と上記画素電極とが接続される液晶表示装置の製造方法において、上記背面基板上に信号配線および下層電極を形成する第1の工程と、上記背面基板上に、ドライフィルムレジストを用いて層間絶縁膜を形成する第2の工程と、上記層間絶縁膜を所定の形状にパターニングし、上記下層電極の位置に合わせてコンタクトホールを形成する第3の工程と、上記層間絶縁膜上に画素電極を形成する第4の工程とを含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
IPC (4件)：
G02F 1/1335 520 ,  G02F 1/1368 ,  G09F 9/30 338 ,  H04N 5/66 102
FI (4件)：
G02F 1/1335 520 ,  G09F 9/30 338 ,  H04N 5/66 102 A ,  G02F 1/136 500
Fターム (52件)：
2H091FA15Y ,  2H091FA16Y ,  2H091FB04 ,  2H091FB08 ,  2H091FC01 ,  2H091FC02 ,  2H091FC16 ,  2H091FC22 ,  2H091FC23 ,  2H091FC26 ,  2H091FC29 ,  2H091FC30 ,  2H091FD04 ,  2H091FD06 ,  2H091FD14 ,  2H091FD23 ,  2H091GA11 ,  2H091GA13 ,  2H091LA03 ,  2H091LA18 ,  2H092HA05 ,  2H092HA06 ,  2H092JA24 ,  2H092JB13 ,  2H092KB25 ,  2H092MA04 ,  2H092MA14 ,  2H092MA15 ,  2H092MA16 ,  2H092MA18 ,  2H092MA19 ,  2H092MA20 ,  2H092MA35 ,  2H092MA37 ,  2H092NA01 ,  2H092NA25 ,  2H092NA27 ,  2H092PA12 ,  2H092QA07 ,  5C058AA06 ,  5C058AB01 ,  5C058BA05 ,  5C058BA35 ,  5C094AA43 ,  5C094AA44 ,  5C094BA03 ,  5C094BA43 ,  5C094CA19 ,  5C094DA09 ,  5C094EA05 ,  5C094EA06 ,  5C094EB02
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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