特許
J-GLOBAL ID：200903069087988460

薄膜形成装置

発明者：
根岸 敏夫

根岸 敏夫 について


出願人/特許権者：
株式会社アルバック

株式会社アルバック について


代理人 (2件)： 阿部 英樹 ,  石島 茂男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-274509
公開番号（公開出願番号）：特開2004-107763
出願日： 2002年09月20日
公開日（公表日）： 2004年04月08日
要約：
【課題】均一な膜厚分布の有機薄膜を形成することができる薄膜形成装置を提供する。【解決手段】本発明の薄膜形成装置は、所定の基板5に対して薄膜を形成するための真空槽2と、蒸発源3と、基板5と蒸発源3との間の空間を仕切る仕切り部7とを有している。仕切り部7の上部に、基板5の蒸着領域を制限するためのアパーチャー70が設けられている。基板5の近傍には、長方形形状の開口部を複数有するマスク6が配設されている。アパーチャー70は、基板5に対し、アパーチャー70の幅方向で、かつ、マスク6の開口部60の長手方向に移動するように構成されている。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
所定の成膜対象物に対して薄膜を形成するための真空槽と、 前記成膜対象物の近傍に配設され、縦横の幅が異なる開口部を有するマスクと、 前記真空槽内に配設され、所定の蒸発材料を蒸発させるための蒸発源と、 前記マスクと対向するように配設され、前記成膜対象物と前記蒸発源との間の空間を仕切る仕切り部とを備え、 前記仕切り部に、前記成膜対象物の蒸着領域を制限するための細長形状のアパーチャーが設けられ、 前記アパーチャーと前記成膜対象物とが、当該アパーチャーの幅方向で、かつ、当該マスクの開口部の長手方向に相対的に移動するように構成されていることを特徴とする薄膜形成装置。
IPC (3件)：
C23C14/24 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14
FI (4件)：
C23C14/24 C ,  C23C14/24 G ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A
Fターム (8件)：
3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4K029BA62 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029DA10 ,  4K029HA03
引用特許：
審査官引用 (3件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM