特許

J-GLOBAL ID：200903069109788584

位相シフトマスク及びそれを用いた焦点位置検出方法

発明者： 桑原 和幸 ,  小野寺 俊雄 ,  大塚 博
出願人/特許権者： 沖電気工業株式会社
代理人 (1件)： 清水 守 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-113199
公開番号（公開出願番号）：特開平8-304999
出願日： 1995年05月11日
公開日（公表日）： 1996年11月22日
要約：

【要約】【目的】 人間の判断による個人差をより排除して、焦点位置検出をより確実にすることができる位相シフトマスク及びそれを用いた焦点位置検出方法を提供する。【構成】 位相シフトマスクにおいて、半導体装置製造でのリソグラフィ工程における露光装置の焦点位置検出に用いる、位相角が180度の整数倍以外の位相シフトパターン102,103による焦点位置を移動可能な焦点位置検出用パターンを有する。

請求項（抜粋）：

半導体装置製造でのリソグラフィ工程における露光装置の焦点位置検出に用いる、位相角が180度の整数倍以外の位相シフタによる焦点位置を移動可能な焦点位置検出用パターンを有する位相シフトマスク。

IPC (3件)：

G03F 1/08 ,  G03F 7/207 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 1/08 A ,  G03F 7/207 H ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 526 A ,  H01L 21/30 528

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 位相シフトマスク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-162920   出願人：株式会社東芝
• 光学焦点テストマスクと監視システム及び方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-229601   出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
• 特開平4-005657
  
• 特開平4-005657