特許
J-GLOBAL ID:200903069126033279

液相析出法によるマイクロパターニング方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 梶 良之 ,  須原 誠
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-123184
公開番号(公開出願番号):特開2004-323946
出願日: 2003年04月28日
公開日(公表日): 2004年11月18日
要約:
【課題】基板上に高いパターン解像度で、金属酸化物の任意のパターンを簡易な方法で形成できる液相析出法によるマイクロパターニング方法を提供し、従来よりも更に高いパターン解像度を可能としたマイクロパターニング方法を利用することで、高密度、高集積度の各種電子デバイス、高機能の光学素子、光触媒性部材を安価に市場に提供する。【解決手段】基板表面に触媒材料を任意の形状にパターニングし、パターニングされた基板を任意のセラミックス又はセラミックス前駆体を析出することができるセラミックス析出反応液に浸漬し、基板表面に液相析出法(LPD:Liquid Phase Deposition)によってセラミックス又はセラミックス前駆体を析出、積層させることによって、パターニングされた部分に選択的にセラミックス又はセラミックス前駆体を形成する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
基板表面に触媒材料を任意の形状にパターニングし、前記パターニングされた基板を任意のセラミックス又はセラミックス前駆体を析出することができるセラミックス析出反応液に浸漬し、前記基板表面に液相析出法(LPD:Liquid Phase Deposition)によってセラミックス又はセラミックス前駆体を析出、積層させることによって、前記パターニングされた部分に選択的にセラミックス又はセラミックス前駆体を形成することができる液相析出法によるマイクロパターニング方法。
IPC (3件):
C23C18/12 ,  C23C26/00 ,  H01L21/316
FI (3件):
C23C18/12 ,  C23C26/00 C ,  H01L21/316 Z
Fターム (37件):
4K022AA02 ,  4K022AA03 ,  4K022AA04 ,  4K022AA05 ,  4K022BA02 ,  4K022BA09 ,  4K022BA15 ,  4K022BA20 ,  4K022BA21 ,  4K022BA22 ,  4K022BA23 ,  4K022BA25 ,  4K022BA26 ,  4K022BA33 ,  4K022BA35 ,  4K022CA06 ,  4K022CA17 ,  4K022CA21 ,  4K022DA06 ,  4K022DA07 ,  4K022EA01 ,  4K044AA01 ,  4K044AA12 ,  4K044AA13 ,  4K044BA12 ,  4K044BA13 ,  4K044BA14 ,  4K044BB01 ,  4K044BB10 ,  4K044CA15 ,  4K044CA53 ,  4K044CA62 ,  5F058BA06 ,  5F058BA20 ,  5F058BC01 ,  5F058BF46 ,  5F058BF80
引用特許:
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (12件)
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