特許

J-GLOBAL ID：200903069174492170

珪素複合体及びその製造方法並びに非水電解質二次電池用負極材

発明者： 福岡 宏文 ,  荒又 幹夫 ,  宮脇 悟 ,  上野 進 ,  籾井 一磨
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (3件)： 小島 隆司 ,  重松 沙織 ,  小林 克成
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-119192
公開番号（公開出願番号）：特開2004-323284
出願日： 2003年04月24日
公開日（公表日）： 2004年11月18日
要約：

【解決手段】珪素の微結晶が珪素系化合物に分散した構造を有する粒子である(但し、粒子の表面を炭素でコーティングしてなるものを除く)ことを特徴とする珪素複合体。【効果】本発明の珪素複合体は、非水電解質二次電池用負極材として用いられて、良好なサイクル性を与え、その製造方法についても簡便であり、十分工業的規模の生産に耐え得るものである。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

珪素の微結晶が珪素系化合物に分散した構造を有する粒子である(但し、粒子の表面を炭素でコーティングしてなるものを除く)ことを特徴とする珪素複合体。

IPC (4件)：

C01B33/18 ,  H01M4/02 ,  H01M4/48 ,  H01M4/62

FI (4件)：

C01B33/18 Z ,  H01M4/02 D ,  H01M4/48 ,  H01M4/62 Z

Fターム (32件)：

4G072AA38 ,  4G072BB05 ,  4G072GG01 ,  4G072HH14 ,  4G072MM36 ,  4G072RR02 ,  4G072TT01 ,  4G072TT06 ,  4G072UU30 ,  5H050AA07 ,  5H050AA08 ,  5H050BA17 ,  5H050CA02 ,  5H050CA08 ,  5H050CA09 ,  5H050CA11 ,  5H050CB02 ,  5H050CB08 ,  5H050CB29 ,  5H050DA09 ,  5H050EA09 ,  5H050FA17 ,  5H050FA19 ,  5H050GA02 ,  5H050GA10 ,  5H050GA27 ,  5H050HA01 ,  5H050HA02 ,  5H050HA05 ,  5H050HA07 ,  5H050HA13 ,  5H050HA14

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 高純度SiO2の製造方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-115773   出願人：新日本製鐵株式会社
• ケイ素/酸化ケイ素の面平行な構造
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2004-513386   出願人：チバスペシャルティケミカルズホールディングインコーポレーテッド
• 非水電解質二次電池用負極活物質及び非水電解質二次電池
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-280303   出願人：株式会社東芝

引用文献：

審査官引用 (1件)

• Preparation of fine silicon particles from amorphous silicon monoxide by the disproportionation reac