特許

J-GLOBAL ID：200903069250241718

化学増幅型レジスト用重合体及びこれを含有した化学増幅型レジスト組成物

発明者： パーク ジョオ-ヒェン ,  セオ ドン-チュル ,  リー ジョン-ブン ,  ジョン ヒュン-ピョ ,  キム セオン-ジュ
出願人/特許権者： コリア クンホ ペトロケミカル カンパニー リミテッド
代理人 (1件)： 正林 真之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-054881
公開番号（公開出願番号）：特開2002-363225
出願日： 2002年02月28日
公開日（公表日）： 2002年12月18日
要約：

【要約】 【課題】 KrFエキシマーレーザーまたはArFエキシマーレーザー、シンクロトロン放射線などのX-線及び電子線(e-beam)などの荷電粒子線のような各種放射線を用いて微細加工に有用なレジストを調剤するに使用することができる新規重合体及びこれを含有するレジスト組成物を提供する。 【解決手段】 以下の化学式1で表示される化学増幅型レジスト用重合体。【化1】 前記式において、R1は炭素数1〜30のアルキル基で、R2は水素原子または炭素数1〜30のアルキル基で、R3とR4は互いに独立したものとして水素原子またはメチル基で、Xはビニルエーテル誘導体、オレフィン誘導体またはスチレン誘導体で、l,m,nは重合体の繰り返し単位を示したもので、lは0.05〜0.9で、mは0〜0.7で、nは0〜0.7である。

請求項（抜粋）：

以下の化学式1で表示される化学増幅型レジスト用重合体。【化1】前記式において、R1は炭素数1〜30のアルキル基で、R2は水素原子または炭素数1〜30のアルキル基で、R3とR4は互いに独立したものとして水素原子またはメチル基で、Xはビニルエーテル誘導体、オレフィン誘導体またはスチレン誘導体で、l,m,nは重合体の繰り返し単位を示したもので、lは0.05〜0.9で、mは0〜0.7で、nは0〜0.7である。

IPC (6件)：

C08F220/28 ,  C08F212/08 ,  C08F216/12 ,  C08F220/18 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

C08F220/28 ,  C08F212/08 ,  C08F216/12 ,  C08F220/18 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (25件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AA09 ,  2H025AA14 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  4J100AA00R ,  4J100AB02R ,  4J100AB07R ,  4J100AE02R ,  4J100AE09R ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA04P ,  4J100BC08P

引用特許：

審査官引用 (3件)

• ポジ型フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-138882   出願人：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-328968   出願人：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-114082   出願人：富士写真フイルム株式会社