特許
J-GLOBAL ID:200903069297727899
イオン源
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
本庄 武男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-144664
公開番号(公開出願番号):特開2003-338251
出願日: 2002年05月20日
公開日(公表日): 2003年11月28日
要約:
【要約】【課題】 ヘリウムイオンのようにプラズマ化しにくい原料ガスであっても良好なプラズマを生成できるイオン源を提供すること。【解決手段】 原料ガス1が高圧充填されたガス導入室11の壁の一部を構成し,微小開孔4が設けられたアノード電極3と,開孔5が設けられたカソード電極6との間に電圧が印加され,前記アノード電極3の微小開孔4から前記カソード電極6の開孔5に向かって高圧噴射された前記原料ガス1をプラズマ化するとともに引き出し電極8により前記カソード電極6の開孔5を通じてイオンを引き出すよう構成されたイオン源において,前記ガス導入室内11に前記アノード電極3の微小開孔4に近接して配置され,絶縁被覆20が施され,さらに交流電圧が印加された交流電極21を具備してなるイオン源。
請求項(抜粋):
原料ガスが高圧充填されたガス導入室の壁の一部を構成し,微小開孔が設けられたアノード電極と,開孔が設けられたカソード電極との間に電圧が印加され,前記アノード電極の微小開孔から前記カソード電極の開孔に向かって高圧噴射された前記原料ガスをプラズマ化するとともに前記カソード電極の開孔を通じてイオンを引き出すよう構成されたイオン源において,前記ガス導入室内の前記アノード電極の微小開孔近傍で無声放電を行う無声放電手段を具備してなることを特徴とするイオン源。
IPC (5件):
H01J 27/02
, G21K 1/00
, G21K 5/04
, H01J 37/08
, H05H 1/24
FI (5件):
H01J 27/02
, G21K 1/00 A
, G21K 5/04 A
, H01J 37/08
, H05H 1/24
Fターム (4件):
5C030DD10
, 5C030DE01
, 5C030DE04
, 5C030DE05
引用特許:
審査官引用 (4件)
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イオン源
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-093213
出願人:株式会社神戸製鋼所
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電子ビーム励起式プラズマ装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-150164
出願人:東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン山梨株式会社
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特開平2-164442
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