ポジ型フォトレジスト組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：萩野平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-025369
公開番号（公開出願番号）：特開平10-221854
出願日： 1997年02月07日
公開日（公表日）： 1998年08月21日
要約：

【要約】【課題】高解像力を有し、かつパターン上部の窪みを発生させることが無く、基板との密着の良好なレジストパターンを形成する優れた化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を提供することにある。【解決手段】 (a)フェノール性水酸基を含有するアルカリ可溶性樹脂における該フェノール性水酸基の10〜80%が特定の構造の基で置換されている樹脂と、(b)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(c)溶剤を少なくとも含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(a)フェノール性水酸基を含有するアルカリ可溶性樹脂における該フェノール性水酸基の10〜80%が下記一般式(I)の基で置換されている樹脂と、(b)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(c)溶剤を少なくとも含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】式中、R1は炭素数1から4までのアルキル基から選ばれた置換基を表す、Wは、酸素原子、窒素原子、イオウ原子、リン原子、珪素原子のうち少なくとも1つの原子を含有する有機残基、あるいはアミノ基、アンモニウム基、メルカプト基の群から選ばれた原子団である。また、nは1から4までの自然数を表す。

IPC (3件)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/039 501 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/039 501 , H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (2件)

感放射線性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-136075 出願人：日本合成ゴム株式会社
感放射線性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-187928 出願人：日本合成ゴム株式会社

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