特許
J-GLOBAL ID：200903069410854347
X線集光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
横川 邦明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-309787
公開番号（公開出願番号）：特開平11-133191
出願日： 1997年10月24日
公開日（公表日）： 1999年05月21日
要約：
【要約】【課題】 実用上十分な強度のX線集光ビームを形成でき、しかも構造が極めて簡単であるX線集光装置を提供することを目的とする。【解決手段】 X線源Fから放射されたX線Rを集光するX線集光装置において、X線源Fから放射されて進行するX線Rの進行経路上に配設されていて平板形状の第1平板モノクロメータ2aと、X線進行経路に関してその第1平板モノクロメータ2aの下流位置に配設されていて平板形状の第2平板モノクロメータ2bとを有し、第1平板モノクロメータ2aと第2平板モノクロメータ2bとは互いに交わる位置関係で配置され、さらに第1平板モノクロメータ2a及び第2平板モノクロメータ2bは、モザイク角度幅の広い結晶、例えばパイロリテックグラファイトによって形成される。
請求項（抜粋）：
X線源から放射されたX線を集光するX線集光装置において、X線源から放射されて進行するX線の進行経路上に配設されていて平板形状の第1平板モノクロメータと、X線進行経路に関してその第1平板モノクロメータの下流位置に配設されていて平板形状の第2平板モノクロメータとを有し、前記第1平板モノクロメータと前記第2平板モノクロメータとは互いに交わる位置関係で配置され、さらに前記第1平板モノクロメータ及び第2平板モノクロメータは、モザイク角度幅の広い結晶によって形成されることを特徴とするX線集光装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
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