特許
J-GLOBAL ID:200903069429837028

ブラインドビアの深さ評価方法および深さ評価装置ならびに基板の研磨装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  渡邊 隆 ,  青山 正和
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-199441
公開番号(公開出願番号):特開2006-024631
出願日: 2004年07月06日
公開日(公表日): 2006年01月26日
要約:
【課題】 導電性物質が充填されたブラインドビアの深さを評価する深さ評価方法および深さ評価装置ならびにこれを用いた基板の研磨装置を提供する。【解決手段】 基板21を透過可能な波長域の検知光Lを他方の面21b側から基板21に向けて照射し、基板21に向かって配置された顕微鏡12を通して検知光Lが基板21側で反射されることにより生じる反射光を受光手段に受光させ、顕微鏡12の焦点を、基板21の一方の面21a及び/又は他方の面21bに設けられた第1のマーキング25,26に合わせたときに受光手段を介して得られる第1の情報と、顕微鏡12の焦点を、ブラインドビア23の底部23bに設けられた第2のマーキング24に合わせたときに受光手段を介して得られる第2の情報とに基づいて、基板21の一方の面21aに開口してなるブラインドビア23の深さdを算出する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
一方の面及び/又は他方の面に第1のマーキングを備えた基板と、該基板の一方の面に開口してなるブラインドビアと、該ブラインドビアの底部に設けられた第2のマーキングとを備える対象物において前記ブラインドビアの深さを評価する評価方法であって、 基板を透過可能な波長域の検知光を前記他方の面の側から前記基板に向けて照射し、 前記基板に向かって配置された顕微鏡を通して前記検知光が基板側で反射されることにより生じる反射光を受光手段に受光させ、 前記顕微鏡の焦点を第1のマーキングに合わせたときに前記受光手段を介して得られる第1の情報と、前記顕微鏡の焦点を第2のマーキングに合わせたときに前記受光手段を介して得られる第2の情報とに基づいて、前記ブラインドビアの深さを算出することを特徴とするブラインドビアの深さ評価方法。
IPC (2件):
H01L 23/12 ,  G01B 11/22
FI (2件):
H01L23/12 501P ,  G01B11/22 Z
Fターム (13件):
2F065AA25 ,  2F065BB22 ,  2F065BB27 ,  2F065CC19 ,  2F065CC25 ,  2F065FF04 ,  2F065FF10 ,  2F065GG03 ,  2F065GG04 ,  2F065JJ19 ,  2F065LL00 ,  2F065PP24 ,  2F065SS02
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (4件)
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