投影露光装置用マスク,投影露光方法および投影露光装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：永井冬紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-186788
公開番号（公開出願番号）：特開平11-030850
出願日： 1997年07月11日
公開日（公表日）： 1999年02月02日
要約：

【要約】【課題】精度良いパターン転写を行うことができる投影露光装置用マスク、および投影露光方法,投影露光装置の提供。【解決手段】電子ビームEBを集束してマスク5に照射するコンデンサーレンズ2と、偏向器4,8と、マスクパターンの像を感応基板11上に結像する投影レンズ9a,9bと、感応基板11上に結像されるパターン像の歪みを補正する補正光学系22と、マスクパターン形成前のマスク5のアライメントマーク位置データが入力される記憶部16aと、露光装置に装着されたマスク5のアライメントマークの位置を検出する検出器25と、制御装置16を備え、記憶部16aに入力された位置データおよび検出器25によって検出されたアライメントマーク位置に基づいて少なくとも補正光学系22を制御し、パターン像の歪みを補正するようにした。

請求項（抜粋）：

パターンが形成された複数の小領域およびその小領域間に設けられた非パターン領域を具備し、前記小領域毎に一括露光が行われる投影露光装置用マスクにおいて、前記非パターン領域に前記小領域に関するアライメントマークを複数形成したことを特徴とする投影露光装置用マスク。

IPC (6件)：

G03F 1/08 , G03F 7/20 504 , G03F 7/20 521 , H01J 37/147 , H01J 37/305 , H01L 21/027

FI (8件)：

G03F 1/08 N , G03F 7/20 504 , G03F 7/20 521 , H01J 37/147 C , H01J 37/305 B , H01L 21/30 502 P , H01L 21/30 541 B , H01L 21/30 541 K

引用特許：

審査官引用 (7件)

マスク並びにこれを用いる荷電粒子ビーム露光方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-222233 出願人：富士通株式会社
ステップ・アンド・スキャン描画を含むデバイス作製
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-343913 出願人：アメリカンテレフォンアンドテレグラフカムパニー
特開平4-369825

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