特許
J-GLOBAL ID：200903069505534226
層間絶縁膜形成用塗布液及びそれを用いた絶縁膜の形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
阿形 明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-204229
公開番号（公開出願番号）：特開平10-140087
出願日： 1997年07月30日
公開日（公表日）： 1998年05月26日
要約：
【要約】【課題】 保存安定性、塗布特性に優れるとともに、絶縁性に優れ、ち密で表面形状の良好な被膜を再現性よく形成することができ、しかも人体に対する影響の少ない層間絶縁膜形成用塗布液、及びそれを用いた絶縁膜の形成方法を提供する。【解決手段】 1H-NMRスペクトルのピーク面積比における、SiH1とSiH2の和に対するSiH3の割合を0.15〜0.40に調整したポリシラザンを、不活性有機溶剤の溶液とした層間絶縁膜形成用塗布液、及びこの塗布液を基板上に塗布し、乾燥したのち、焼成帯域中において、相対湿度45%以上の加湿ガス又はキャリヤーガス1リットルに対して、水分0.001〜0.1gを混合した加湿ガスを流入させながら、300〜800°Cで焼成することにより、層間絶縁膜を形成する方法である。
請求項（抜粋）：
1H-NMRスペクトルのピーク面積比における、SiH1とSiH2の和に対するSiH3の割合を0.15〜0.45に調整したポリシラザンの不活性有機溶剤溶液から成る層間絶縁膜形成用塗布液。
IPC (5件)：
C09D183/16
, B05D 3/04
, B05D 7/24 302
, C08L 83/16
, H01B 3/46
C09D183/16
, B05D 3/04 A
, B05D 7/24 302 Y
, C08L 83/16
, H01B 3/46 E
