特許

J-GLOBAL ID：200903069604036777

基板処理装置

発明者： 辻 雅夫 ,  大谷 正美 ,  今西 保夫 ,  岩見 優樹 ,  西村 讓一 ,  森田 彰彦
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 大坪 隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-116338
公開番号（公開出願番号）：特開平10-294352
出願日： 1997年04月17日
公開日（公表日）： 1998年11月04日
要約：

【要約】【課題】 占有床面積を増大させることなく処理ユニット数を増加することができ、効率的に基板を処理することができる基板処理装置を提供することを目的とする。【解決手段】 基板処理装置は、上下一対の基板搬送アーム11a、11bを備えた第1の基板搬送機構12と、第1の基板搬送機構12を取り囲むように配設されたスピンコータ13、スピンデベロッパ14および載置台15、16とを有する第1の基板処理部10と、上下一対の基板搬送アーム21a、21bを備えた第2の基板搬送機構22と、当該第2の基板搬送機構22の搬送路25に沿って配設された加熱ユニット23およびアドヒュージョンユニット24とを有する第2の基板処理部20と、第1の基板搬送機構12と第2の基板搬送機構22との間で基板を受け渡しするための受渡部としての冷却ユニット30とを備える。

請求項（抜粋）：

鉛直軸を回転中心として回転可能な基板搬送アームを備えた第1の基板搬送機構と、当該第1の基板搬送機構を取り囲むように配設された複数の処理ユニットとを有する第1の基板処理部と、水平方向を向く搬送路を往復移動可能な基板搬送アームを備えた第2の基板搬送機構と、当該第2の基板搬送機構の搬送路に沿って配設された複数の処理ユニットとを有し、前記第1の基板処理部の上方または下方に配置された第2の基板処理部と、前記第1の基板搬送機構と第2の基板搬送機構との間で基板を受け渡しするための受渡部と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/68 A ,  H01L 21/30 502 J

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-343898   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 搬送方法及び搬送装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-046413   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-135796   出願人：大日本スクリーン製造株式会社

審査官引用 (3件)

• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-343898   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 搬送方法及び搬送装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-046413   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-135796   出願人：大日本スクリーン製造株式会社