特許

J-GLOBAL ID：200903069610926601

壁状構造体及びその製造方法

発明者： 川畑 耕也 ,  市橋 光芳
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 廣田 浩一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-363847
公開番号（公開出願番号）：特開2003-287888
出願日： 2002年12月16日
公開日（公表日）： 2003年10月10日
要約：

【要約】【課題】 高アスペクト比で、安価で製造可能なパターン構造体等の提供。【解決手段】 配向軸を有する配向分子が配向軸方向に配向されてなり、該配向分子が、重合性官能基を有する化合物を重合させて得られることを特徴とする壁状構造体である。配向分子の配向軸に対する配向パラメーターが、0.5以上である態様、水平面上に配置され、該水平面と交差し、且つ、互いに対向する壁面を有してなり、該水平面と垂直方向であって、且つ、前記対向する壁面と交差する平面で切断してなる断面における、前記対向する壁面のうち少なくとも一方の長さをAとした時、該水平面から1/2Aの長さの位置における該壁面上の接線と前記水平面とのなす角度が、85〜95度である態様等が好ましい。

請求項（抜粋）：

配向軸を有する配向分子が配向軸方向に配向されてなり、該配向分子が、重合性官能基を有する化合物を重合させて得られることを特徴とする壁状構造体。

IPC (5件)：

G03F 7/027 502 ,  B81B 1/00 ,  B81C 5/00 ,  H01J 9/02 ,  H01J 11/02

FI (5件)：

G03F 7/027 502 ,  B81B 1/00 ,  B81C 5/00 ,  H01J 9/02 F ,  H01J 11/02 B

Fターム (28件)：

2H025AA03 ,  2H025AB14 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AB20 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC14 ,  2H025BC42 ,  2H025BC83 ,  2H025BD23 ,  2H025BJ10 ,  2H025CA00 ,  2H025EA03 ,  2H025FA15 ,  5C027AA09 ,  5C027AA10 ,  5C040FA10 ,  5C040GF02 ,  5C040GF03 ,  5C040GF18 ,  5C040GF19 ,  5C040JA02 ,  5C040JA15 ,  5C040KA16 ,  5C040LA14 ,  5C040MA22 ,  5C040MA26

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 微細パターン形成材料およびパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-022299   出願人：松下電器産業株式会社
• 新規コポリマー、ホトレジスト組成物、および高アスペクト比のレジストパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-214451   出願人：東京応化工業株式会社