従来の解像度限界を超える光学的リソグラフィ

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：坂口博 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-513173
公開番号（公開出願番号）：特表2001-517865
出願日： 1997年09月19日
公開日（公表日）： 2001年10月09日
要約：

【要約】【課題】既存の光源を使用して、光学的リソグラフィ・システムの使用を350nmより充分に低いフィーチャ・サイズ、具体的にはλ/2〜λ/5の範囲のフィーチャ・サイズまで延長できる、新しい光学的フォトリソグラフィ方式を提供する。【解決手段】光カップリング構造、特にエラストマーの光カップリング構造を利用する光学的リソグラフィ方式を記述する。これらの光カップリング構造は、突起部24および接続部29を含む。突起要素24内に導かれた光がそこから直接レジスト11に結合されるように、突起要素24は露光対象のレジスト11と共形接触するように設計する。突起要素24の横方向の形状およびサイズが、レジストで露光される小さいフィーチャ30の横方向のサイズおよび形状を1:1で規定する。

請求項（抜粋）：

露光光(13)でレジスト(11)を露光するためのマスクとして使用するための光カップリング構造(20、40)であって、露光光(13)をその端部に向かって導く突起部(24、42、43、44)であって、露光光(13)が前記端部からレジスト(11)中に直接結合され、前記端部がレジスト(11)中の露光される構造の横方向形状を有する突起部と、前記突起部(24、42、43、44)を接続し、かつ突起部(24、42、43、44)を通して露光される領域以外のレジスト(11)の領域が露光光(13)で露光されるのを防止する接続部(29)とを含み、光カップリング構造(20、40)が屈折率レリーフを有し、露光光(13)が内部反射によって前記突起部(24、42、43、44)に向かって導かれる、光カップリング構造。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , G03F 1/08 , G03F 1/14 , G03F 7/20 521

FI (4件)：

G03F 1/08 Z , G03F 1/14 A , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 505

Fターム (8件)：

2H095BA04 , 2H095BA07 , 2H095BB27 , 2H095BE03 , 5F046AA25 , 5F046BA01 , 5F046CB17 , 5F046DA24

引用特許：

審査官引用 (1件)

リソグラフィ方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-206087 出願人：畑村洋太郎

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