特許
J-GLOBAL ID：200903049349440681
リソグラフィ方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
武 顕次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-206087
公開番号（公開出願番号）：特開平10-048810
出願日： 1996年08月05日
公開日（公表日）： 1998年02月20日
要約：
【要約】【課題】 露光線幅が細く、露光所要時間が短く、かつ、通常の安価線源装置を用いることができるリソグラフィ方法を提供すること。【解決手段】 基板3上にはレジスト層4が塗布されている。一方、ガラス板10には凸部10aと凹部10bにより所要のパタンが作成されている。凸部10aをレジスト層4に密着、押し込み、又は近接した状態で紫外線11をガラス板10の裏面に全反射させると、ガラス板10のおもて面の凹凸面に沿って10nmオーダの厚みで局在する光(しみだし光)が発生する。このしみだし光により、凸部10aに面対するレジスト層4んお部分4aが感光する。感光したレジスト層4を現像すると図1の(b)に示すように感光した部分のレジスト層4aが残り、ガラス板10の凸部10aのパタンが転写される。
請求項（抜粋）：
基板にレジスト層を設け、このレジスト層に任意のパタンを露光させるリソグラフィ方法において、前記パタンに対応する凹凸が形成され、かつ、投射される光に対して透明な透明部材を、前記凹凸のうちの凸部が前記レジスト層に近接又は密着した状態で前記基板上に配置し、前記透明部材に前記光を投射し、これにより発生する前記凸部に局在する光により前記レジスト層を感光させることを特徴とするリソグラフィ方法。
IPC (3件)：
G03F 1/08
, G03F 7/20 521
, H01L 21/027
G03F 1/08 Z
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
