特許
J-GLOBAL ID：200903069825902819

光断層画像化装置

発明者：
戸井田 昌宏

戸井田 昌宏 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 柳田 征史 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-286690
公開番号（公開出願番号）：特開2003-090792
出願日： 2001年09月20日
公開日（公表日）： 2003年03月28日
要約：
【要約】【課題】 低コヒーレンス干渉を用いて断層情報を取得する光断層画像化装置において、大型で高価な光源を使用せずに、高い分解能で断層情報を取得する。【解決手段】 ファイバカプラ201 において、光源部10から出射された低コヒーレンス光を、被測定部1に照射する信号光と、ピエゾ素子203 で周波数シフトされる参照光とに分割し、また、被測定部1の所定の深部で反射された信号光と参照光とを合波する。この合波された干渉光の光強度をバランス差分検出部50で検出し、信号処理部60で画像処理を行い、画像表示部70に光断層画像として表示する。モード同期Er添加ファイバレーザからなるパルス光源部101 から射出されるパルス光は、負分散特性を有する零分散ファイバ111 において、スペクトル幅が拡大され、コヒーレンス長が短くなる。従来光源部に使用される大型で高価なKLM,Ti:sapphire Laserが不要になり、光源部10が小型で安価なものとなる。
請求項（抜粋）：
低コヒーレンス光を射出する光源部と、前記低コヒーレンス光を信号光と参照光に分割し、前記参照光の周波数と前記信号光の周波数に差が生じるように、前記参照光または信号光の少なくとも一つの周波数をシフトさせ、前記信号光を被測定部に照射し、前記信号光の前記被測定部の所定の深部からの反射光と前記参照光とを干渉させる分波・合波手段と、前記反射光と参照光の干渉光の光強度を測定し、該光強度に基づいて、前記被測定部の光断層画像を取得する画像検出手段とを有する光断層画像化装置において、前記光源部が、パルス光を射出するモード同期ファイバレーザと、該パルス光を伝搬させ、かつ該パルス光の波長帯域において負分散特性を有するファイバとを備えてなるものであることを特徴とする光断層画像化装置。
IPC (2件)：
G01N 21/17 630 ,  A61B 10/00
FI (2件)：
G01N 21/17 630 ,  A61B 10/00 E
Fターム (18件)：
2G059AA05 ,  2G059BB12 ,  2G059EE02 ,  2G059EE09 ,  2G059FF01 ,  2G059FF06 ,  2G059GG01 ,  2G059GG08 ,  2G059GG09 ,  2G059HH01 ,  2G059HH02 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ12 ,  2G059JJ14 ,  2G059JJ17 ,  2G059JJ19 ,  2G059KK01 ,  2G059PP04
引用特許：
審査官引用 (5件)
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引用文献：
審査官引用 (5件)
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