特許
J-GLOBAL ID：200903069828799644

基板露光方法および装置

発明者：
青木 俊弘

青木 俊弘 について

, 
伊勢 勝

伊勢 勝 について


出願人/特許権者：
株式会社オーク製作所

株式会社オーク製作所 について


代理人 (1件)： 役 昌明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-014896
公開番号（公開出願番号）：特開2001-209192
出願日： 2000年01月24日
公開日（公表日）： 2001年08月03日
要約：
【要約】【課題】 下枠の上面に載置される多層基板基板等のフィルム状の基板の反りまたは皺等を除き、上枠に被着固定されたマスクアフィルムとのライメント作業を簡単確実にする基板露光方法および露光装置を提供すること。【解決手段】 ハンドラー300により下枠100の上面102に載置したフィルム状の基板Wを真空吸着装置120で吸着固定する前に、下面202にマスクフィルムMが被着固定された上枠200で押圧し、フィルム状の基板Wの反りや皺を除いて下枠100の上面102上に平坦にする。その後、真空吸着装置120で真空引きして基板W下枠100の上面102に吸着固定し、マスクフィルムMとのアライメントを確認し、露光光源から紫外線を照射して露光する。
請求項（抜粋）：
真空引きしてフィルム状の基板を吸着固定する下枠と、下面にマスクフィルムが被着固定された透明な上枠とを有し、上記基板およびマスクフィルムをアライメントして露光用光源からの光を前記マスクフィルムを介して前記基板に照射して露光する基板露光方法において、前記基板を前記下枠に真空吸着する前に、前記前記マスクフィルムを有する前記上枠で前記基板を前記下枠に押圧する工程と、次に前記下枠を真空引きして前記押圧された基板を前記下枠に吸着固定する工程と、該吸着固定して平坦にした基板に前記マスクフィルム密着させて露光光源により前記マスクフィルムを介して前記基板を露光する工程とよりなることを特徴とする基板露光方法。
IPC (3件)：
G03F 9/00 ,  H01L 21/027 ,  H05K 3/00
FI (4件)：
G03F 9/00 Z ,  H05K 3/00 G ,  H05K 3/00 H ,  H01L 21/30 506 Z
Fターム (10件)：
2H097GA06 ,  2H097GA23 ,  2H097KA02 ,  2H097LA09 ,  5F046AA03 ,  5F046CA02 ,  5F046CC10 ,  5F046CC11 ,  5F046DA20 ,  5F046ED01
引用特許：
審査官引用 (4件)
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