ピラゾール誘導体、連鎖移動剤、酸解離性基含有重合体および感放射線性樹脂組成物

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：渡邉一平 , 木川幸治 , 樋口武
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-229758
公開番号（公開出願番号）：特開2006-045136
出願日： 2004年08月05日
公開日（公表日）： 2006年02月16日
要約：

【課題】微細加工に有用な化学増幅型レジストとして好適に使用できる感放射線性樹脂組成物および酸解離性基含有重合体、この共重合体の製造に連鎖移動剤として好適に用いることができるピラゾール誘導体を提供する。【解決手段】式(1)で示されるピラゾール誘導体およびこの誘導体を連鎖移動剤として用いた重合により得られる酸解離性基含有重合体およびこの誘導体を含む感放射線性樹脂組成物を提供する。【化1】〔式(1)において、R、R2、R3はアルキル基、脂環族基、アルケニル基、アリール基又はヘテロアリール基を示し、nは0〜3の整数である。また、R2とR3はそれぞれ互いに結合して1つ以上の環を形成してもよい。R1は、水素原子、或いは置換若しくは非置換の、アルキル基又は脂環族基を示す。〕【選択図】なし

請求項（抜粋）：

式(1)で示されるピラゾール誘導体。

IPC (5件)：

C07D 231/14 , C08F 2/38 , C08F 220/16 , C08F 220/28 , H01L 21/027

FI (5件)：

C07D231/14 , C08F2/38 , C08F220/16 , C08F220/28 , H01L21/30 502R

Fターム (30件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AA09 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 4J011NA16 , 4J011NA17 , 4J011NB06 , 4J011NC02 , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100BA11Q , 4J100BC03R , 4J100BC04R , 4J100BC09R , 4J100BC12P , 4J100BC53Q , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100FA06 , 4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (6件)

フォトレジスト用高分子化合物及びフォトレジスト用樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-186493 出願人：ダイセル化学工業株式会社
フォトレジスト用高分子化合物及びフォトレジスト用樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-185580 出願人：ダイセル化学工業株式会社
国際公開公報WO98/01478号

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