特許
J-GLOBAL ID：200903069920695200

基体の浮上装置並びに基体浮上型の加熱装置及び製膜装置

発明者：
都田 昌之

都田 昌之 について

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梅田 優

梅田 優 について

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菅野 洋一

菅野 洋一 について

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大見 忠弘

大見 忠弘 について


出願人/特許権者：
株式会社渡邊商行

株式会社渡邊商行 について


代理人 (1件)： 福森 久夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-061584
公開番号（公開出願番号）：特開平10-256354
出願日： 1997年03月14日
公開日（公表日）： 1998年09月25日
要約：
【要約】【課題】 本発明は、基体を浮上させたとき、回転軸や面ぶれが小さく安定した浮上状態が得られる基体の浮上装置と、基体表面の清浄度を保持した状態で膜形成が可能であり、かつ、基体表面の温度分布や基体上に薄膜を形成するため用いる原料の濃度分布が小さく、広範囲で均一な膜厚分布を有する膜形成が可能な基体浮上型の加熱装置及び製膜装置を提供することを目的とする。【解決手段】 基体の浮上装置は、円盤状の基体の裏面に気流を吹き付けて該基体を浮上させながら回転させる基体の浮上装置が、該基体を浮上させる浮上用細孔群と、該基体を装置中央で固定するセンタリング用細孔群と、該基体を装置中央で回転させる回転用細孔群と、該基体の高速回転時のぶれを抑える補助細孔群と、から構成される浮上ユニットを有することを特徴とする。また、基体浮上型の加熱装置及び製膜装置は、前記浮上ユニットを備えたことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
円盤状の基体の裏面に気流を吹き付けて該基体を浮上させながら回転させる基体の浮上装置が、該基体を浮上させる浮上用細孔群と、該基体を装置中央で固定するセンタリング用細孔群と、該基体を装置中央で回転させる回転用細孔群と、該基体の高速回転時のぶれを抑える補助細孔群と、から構成される浮上ユニットを有することを特徴とする基体の浮上装置。
IPC (3件)：
H01L 21/68 ,  B23Q 3/08 ,  H01L 21/205
FI (3件)：
H01L 21/68 N ,  B23Q 3/08 Z ,  H01L 21/205
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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