特許
J-GLOBAL ID：200903069941642603
特に結晶質の基板上に、特に結晶質の層を沈積する装置および方法
ジューゲンゼン、ホルガー
, ジューゲンゼン、ホルガー について
ストラウハ、ゲルド
, ストラウハ、ゲルド について
カペラ、ヨハネス
カペラ、ヨハネス について
出願人/特許権者：
アイクストロン、アーゲー
アイクストロン、アーゲー について
代理人 (3件)： 小島 高城郎 , 河合 典子 , 佐藤 卓也
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-522580
公開番号（公開出願番号）：特表2004-507898
出願日： 2001年07月13日
公開日（公表日）： 2004年03月11日
要約：
【課題】ガス導入範囲における分解生成物の液化を防止する。【解決手段】本発明は、特に結晶質の層を1つ以上の特に処理室(1)の同様な基板上に、処理室に導入されそこで熱分解によって変換された処理ガスによって沈積させる装置に関するもので、処理室(1)は第1の壁(3)および第1の壁に対向する第2の壁(4)を有し、少なくとも1つの加熱された基板保持器(45)が第1の壁に配置され、少なくとも1つの反応ガスがガス導入装置(6)によって処理室(1)に供給される。早期の資源ガスの分解および分解生成物を含むガス流の局部的な過飽和を防止するため、ガス導入装置を液体で冷却することを提案している。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
特に結晶質の層を、1つ以上の特に処理室(1)の同様な基板上に、処理室に導入されそこで熱分解によって変換された処理ガスによって沈積させる装置において、処理室(1)は第1の壁(3)および第1の壁に対向する第2の壁(4)を有し、第1の壁には少なくとも1つの加熱された基板保持器(45)が配置され、少なくとも1つの反応ガスが液体で冷却されるガス導入装置(6)によって処理室(1)に供給される装置において、
ガス導入装置(6)の冷却された区間が両方の壁(3、4)間の空間に突き出すことを特徴とする装置。
IPC (3件)：
FI (3件)：
Fターム (14件)：
4G077AA03
, 4G077BE08
, 4G077DB01
, 4G077EG15
, 4G077EG23
, 4G077TG06
, 4G077TH06
, 5F045AA04
, 5F045AB06
, 5F045AC01
, 5F045AC07
, 5F045BB15
, 5F045EF01
, 5F045EJ09
引用特許：
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