特許
J-GLOBAL ID：200903070037514253

アラインメントシステムおよびアラインメントシステムと共に使用するためのアラインメントマーク

発明者：
ハルセボス,エド,マリア

ハルセボス,エド,マリア について

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ビジネン,フランシスカス,ゴデフリドゥス,キャスパー

ビジネン,フランシスカス,ゴデフリドゥス,キャスパー について

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ワーナール,パトリック

ワーナール,パトリック について


出願人/特許権者：
エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. について


代理人 (2件)： 稲葉 良幸 ,  大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-326729
公開番号（公開出願番号）：特開2009-177159
出願日： 2008年12月24日
公開日（公表日）： 2009年08月06日
要約：
【課題】リソグラフィ装置において使用されるアラインメントシステムを提供する。【解決手段】本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置が、基板またはレチクルを位置合わせするためのアラインメントシステムを備える。アラインメントシステムは、基板上またはレチクル上のアラインメントマークを照明する放射源を備え、アラインメントマークは、最大長シーケンスマークまたは多重周期的粗アラインメントマークを含む。アラインメントマークから生成されるアラインメント信号が、検出システムにより検出される。プロセッサが、アラインメント信号に基づいて基板またはレチクルのアラインメント位置を決定する。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
基板またはレチクルを位置合わせするためのアライメントシステムであって、 前記基板上または前記レチクル上のアラインメントマークを使用中に照明する放射源であって、前記アラインメントマークが最大長シーケンスアラインメントマーク、ランダムシーケンスアラインメントマークまたは多重周期的粗アラインメントマークを含む、放射源と、 前記アラインメントマークから生成されるアラインメント信号を検出する検出システムと、 前記アラインメント信号からアラインメント位置を決定するプロセッサとを備え、 前記最大長シーケンスマークは、複数の非周期的な隣接するラインアンドスペースを含み、 前記多重周期的粗アラインメントマークは、中心ラインに関して対称に配置された第1の周期性を有する第1および第2のセクションと第2の周期性を有する第3のセクションとを少なくとも有する複数の隣接するラインアンドスペースを含む、アラインメントシステム。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G03F 9/00 ,  G01B 11/00
FI (4件)：
H01L21/30 525F ,  H01L21/30 522D ,  G03F9/00 H ,  G01B11/00 G
Fターム (34件)：
2F065AA03 ,  2F065AA07 ,  2F065AA09 ,  2F065AA20 ,  2F065BB02 ,  2F065BB28 ,  2F065CC18 ,  2F065CC19 ,  2F065DD02 ,  2F065DD03 ,  2F065FF48 ,  2F065FF52 ,  2F065GG04 ,  2F065HH04 ,  2F065LL28 ,  2F065LL46 ,  2F065LL47 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ17 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ29 ,  2F065QQ39 ,  2F065QQ44 ,  2F065TT02 ,  2F065TT08 ,  5F046BA03 ,  5F046EA07 ,  5F046EA09 ,  5F046EB01 ,  5F046EB02 ,  5F046ED01 ,  5F046FA10 ,  5F046FB19 ,  5F046FC04
引用特許：
審査官引用 (5件)
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