特許

J-GLOBAL ID：200903070073881793

基板処理装置

発明者： 谷口 竹志 ,  小笠原 光雄 ,  鈴木 聡
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-208838
公開番号（公開出願番号）：特開2001-035778
出願日： 1999年07月23日
公開日（公表日）： 2001年02月09日
要約：

【要約】【課題】 構成が容易でかつ処理ツールから処理液のミストが飛散することがない基板処理装置を提供する。【解決手段】基板Wはローラコンベア1により傾斜姿勢で搬送されて剥離処理室2内の処理ツール10に搬入される。処理ツール10は、ノズル56と、基板の上面を覆う第1の覆い部材51と基板の裏面を覆う第2の覆い部材52とからなる容器50と、基板の表面に沿うように各覆い部材51、52に設けられたつば部64、66と、基板の傾斜の上側からつば部64と基板の表面との間に処理液を供給する副ノズル68とを備えている。容器50内で処理液のミストが発生しても、ミストは基板とつば部64、66との間の狭い隙間70を通過せず遮蔽される。

請求項（抜粋）：

基板を傾斜姿勢に支持してその板面に沿った方向に搬送する搬送機構と、搬送機構により搬送される基板の一方の表面に対して処理液を供給する処理液ノズルと、前記基板の前記一方の表面のうち前記処理液ノズルからの処理液が供給される領域を覆う第1の覆い部材と、前記覆い部材の前記基板側に、当該基板の表面に沿うように設けられたつば部と、前記基板と前記つば部との間に、前記基板の傾斜方向上側から液を供給する副ノズルとを備えたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  H01L 21/304 643 ,  H01L 21/304 648 ,  H01L 21/306

FI (4件)：

H01L 21/30 569 D ,  H01L 21/304 643 B ,  H01L 21/304 648 A ,  H01L 21/306 R

Fターム (10件)：

5F043CC16 ,  5F043DD30 ,  5F043EE07 ,  5F043EE35 ,  5F043EE36 ,  5F043EE40 ,  5F043GG10 ,  5F046LA11 ,  5F046LA19 ,  5F046MA10

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 特開平4-303934
  
• 基板表面処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-339303   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-232434   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 特開昭63-042131
  

審査官引用 (2件)

• 特開平4-303934
  
• 基板表面処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-339303   出願人：大日本スクリーン製造株式会社