特許
J-GLOBAL ID:200903070094094333

光導波路形成用硬化性組成物、光導波路の形成方法、および光導波路

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-383163
公開番号(公開出願番号):特開2003-185862
出願日: 2001年12月17日
公開日(公表日): 2003年07月03日
要約:
【要約】【課題】 光導波路形成用光硬化性組成物およびそれを用いた光導波路、および光導波路の形成方法、より詳細には、アミノポリシロキサンと光酸発生剤を含有する高精度のパターンを形成でき、耐水性が良好な光導波路を形成できる光導波路形成用光硬化性組成物とこれを用いることを特徴とする光導波路の製造法、および光導波路を得る。【解決手段】 A)下記構造単位(1)〜(3)の少なくとも1種を有し、かつアミノ基を有するアミノポリシロキサンならびに(B)光酸発生剤を含有することを特徴とする光導波路形成用光硬化性組成物。
請求項(抜粋):
(A)下記構造単位(1)〜(3)の少なくとも1種を有し、かつアミノ基を有するアミノポリシロキサン(1)【化1】(2)【化2】(3)【化3】(一般式(2)および(3)において、 R1、R2、R3は水素原子または1価の有機基であり、同一または異なっていてもよい)ならびに(B)光酸発生剤を含有することを特徴とする光導波路形成用光硬化性組成物。
IPC (2件):
G02B 6/12 ,  G02B 6/13
FI (2件):
G02B 6/12 N ,  G02B 6/12 M
Fターム (7件):
2H047KA04 ,  2H047PA02 ,  2H047PA21 ,  2H047PA24 ,  2H047PA28 ,  2H047QA05 ,  2H047QA07
引用特許:
審査官引用 (6件)
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