特許
J-GLOBAL ID：200903090090882591

光導波路の製造方法および光導波路

発明者：
関口 学

関口 学 について

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森川 明彦

森川 明彦 について

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佐藤 穂積

佐藤 穂積 について


出願人/特許権者：
ジェイエスアール株式会社

ジェイエスアール株式会社 について


代理人 (1件)： 大井 正彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-238406
公開番号（公開出願番号）：特開2000-066051
出願日： 1998年08月25日
公開日（公表日）： 2000年03月03日
要約：
【要約】【課題】 導波路損失が低く、耐熱性に優れた光導波路を、短時間でかつ簡単に製造することができる方法、並びにこの方法による光導波路を提供すること。【解決手段】 本発明は、基板、下部クラッド層、コア部分および上部クラッド層よりなる光導波路の製造方法であって、下部クラッド層、コア部分および上部クラッド層の少なくとも一つは、放射線硬化性組成物を塗布して放射線の照射により硬化させることを含む手段により形成される。コア部分は、放射線硬化性組成物を塗布して得られる薄膜に、所定のパターンに従って放射線を照射して未露光部を除去することにより形成することが好ましい。放射線硬化性組成物は、(A)特定の加水分解性シラン化合物、その加水分解物およびその縮合物からなる群から選ばれる少なくとも1つの化合物、(B)光酸発生剤並びに(C)脱水剤を含有するものが好ましい。光導波路は、上記の方法によって製造される。
請求項（抜粋）：
基板と、この基板上に形成された下部クラッド層と、この下部クラッド層上に形成されたコア部分と、このコア部分および下部クラッド層上に形成された上部クラッド層とよりなる光導波路の製造方法であって、下部クラッド層、コア部分および上部クラッド層の少なくとも一つを、放射線硬化性組成物を塗布して放射線の照射により硬化させることを含む手段により形成することを特徴とする光導波路の製造方法。
IPC (3件)：
G02B 6/13 ,  C09D183/04 ,  C08G 77/04
FI (3件)：
G02B 6/12 M ,  C09D183/04 ,  C08G 77/04
Fターム (48件)：
2H047KA04 ,  2H047PA02 ,  2H047PA13 ,  2H047PA21 ,  2H047PA22 ,  2H047PA24 ,  2H047PA28 ,  2H047QA05 ,  2H047TA35 ,  2H047TA36 ,  2H047TA43 ,  4J035BA01 ,  4J035BA11 ,  4J035CA13N ,  4J035CA131 ,  4J035CA14N ,  4J035CA141 ,  4J035EA01 ,  4J035EB02 ,  4J035LA03 ,  4J035LB17 ,  4J038DL051 ,  4J038DL071 ,  4J038DL081 ,  4J038HA216 ,  4J038HA446 ,  4J038HA556 ,  4J038JA29 ,  4J038JA31 ,  4J038JA33 ,  4J038JA42 ,  4J038JA56 ,  4J038JA59 ,  4J038JB15 ,  4J038JC01 ,  4J038JC19 ,  4J038JC20 ,  4J038JC37 ,  4J038JC38 ,  4J038KA02 ,  4J038KA04 ,  4J038KA11 ,  4J038KA20 ,  4J038NA17 ,  4J038PA17 ,  4J038PB08 ,  4J038PB09 ,  4J038PB11
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (6件)
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