放射線硬化性組成物およびそれを用いた光導波路ならびに光導波路の製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：渡辺喜平 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-103716
公開番号（公開出願番号）：特開2001-288364
出願日： 2000年04月05日
公開日（公表日）： 2001年10月16日
要約：

【要約】【課題】優れたパターン精度を有する放射線硬化性組成物、およびこのような放射線硬化性組成物を用いた光導波路ならびに光導波路の製造方法を提供する。【解決手段】下部クラッド層と、コア部分と、上部クラッド層とを含む光導波路において、下部クラッド層、コア部分および上部クラッド層の少なくとも一つが、下記(A)〜(C)成分を含有してなる放射線硬化性組成物の硬化物である。(A)一般式(1)で表される加水分解性シラン化合物、その加水分解物およびその縮合物からなる群から選ばれる少なくとも1つの化合物(R1)pSi(X)4-p (1)[一般式(1)中、R1は、炭素数が1〜12である非加水分解性の有機基、Xは加水分解性基、およびpは0〜3の整数である。](B)光酸発生剤(C)酸拡散制御剤

請求項（抜粋）：

下記(A)〜(C)成分を含有することを特徴とする放射線硬化性組成物。(A)一般式(1)で表される加水分解性シラン化合物、その加水分解物およびその縮合物からなる群から選ばれる少なくとも1つの化合物(R1)pSi(X)4-p (1)[一般式(1)中、R1は、炭素数が1〜12である非加水分解性の有機基、Xは加水分解性基、およびpは0〜3の整数である。](B)光酸発生剤(C)酸拡散制御剤

IPC (4件)：

C08L 83/04 , C08K 5/17 , G02B 6/12 , G02B 6/13

FI (4件)：

C08L 83/04 , C08K 5/17 , G02B 6/12 N , G02B 6/12 M

Fターム (35件)：

2H047KA03 , 2H047KA05 , 2H047KB01 , 2H047PA02 , 2H047PA22 , 2H047PA28 , 2H047QA05 , 2H047RA08 , 2H047TA31 , 4J002CP031 , 4J002CP081 , 4J002EE038 , 4J002EF128 , 4J002EH038 , 4J002EL059 , 4J002EL069 , 4J002EL148 , 4J002EN027 , 4J002EN067 , 4J002EN107 , 4J002EN136 , 4J002EP017 , 4J002EV236 , 4J002EV246 , 4J002EV296 , 4J002EV309 , 4J002EW176 , 4J002EY016 , 4J002EY026 , 4J002EZ006 , 4J002FD206 , 4J002FD207 , 4J002FD208 , 4J002FD209 , 4J002GQ05

引用特許：

審査官引用 (17件)

珪素組成物、これを用いたパターン形成方法、および電子部品の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-063277 出願人：株式会社東芝
光導波路の製造方法および光導波路
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-238406 出願人：ジェイエスアール株式会社
硬化性樹脂組成物および反射防止膜
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-030170 出願人：ジェイエスアール株式会社

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