特許
J-GLOBAL ID：200903070171260640

気体の分離膜およびその製造方法

発明者：
小林 晴男

小林 晴男 について

, 
平塚 茂雄

平塚 茂雄 について


出願人/特許権者：
アテネ株式会社

アテネ株式会社 について


代理人 (1件)： 西 良久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-209815
公開番号（公開出願番号）：特開2001-029761
出願日： 1999年07月23日
公開日（公表日）： 2001年02月06日
要約：
【要約】【課題】 この発明は、水素その他の被分離気体の透過速度を早めて処理量を増大させる分離膜及びその製造方法に関する。【解決手段】 水素その他の被分離気体を別の気体から分離するための気体の分離膜において、該分離膜に極微少な多数の凹凸パターンを形成してなるので、気体の透過速度を早めて処理量を増大させることができる。
請求項（抜粋）：
水素その他の被分離気体を別の気体から分離するための気体の分離膜において、マイクロマシン製造または半導体製造に使われる三次元超微細加工手段として、凹凸パターン構造体(雌型)を作成し、これを基に電鋳法で作成した金型(雄型)を用いて多数の凹凸を有する無機多孔質または有機質の膜支持体を成形し、該膜支持体の表面に分離膜を形成してなり、該分離膜の表面積を広くすることにより、気体の透過速度を早めて処理量を増大せしめてなることを特徴とする気体の分離膜。
IPC (6件)：
B01D 71/02 500 ,  B01D 67/00 ,  B01D 69/10 ,  B81B 1/00 ,  B81C 5/00 ,  C01B 3/56
FI (6件)：
B01D 71/02 500 ,  B01D 67/00 ,  B01D 69/10 ,  B81B 1/00 ,  B81C 5/00 ,  C01B 3/56 Z
Fターム (19件)：
4D006GA41 ,  4D006MA03 ,  4D006MA06 ,  4D006MA31 ,  4D006MA40 ,  4D006MC02X ,  4D006MC03X ,  4D006NA39 ,  4D006NA46 ,  4D006NA50 ,  4D006PA01 ,  4D006PB18 ,  4D006PB19 ,  4D006PB66 ,  4G040FA04 ,  4G040FB09 ,  4G040FC01 ,  4G040FD07 ,  4G040FE01
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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